1. Булвакуумдук буулануу каптоосуБул процесс пленка материалдарынын бууланышын, жогорку вакуумда буу атомдорун ташуу жана буу атомдорунун иштетилүүчү бөлүктүн бетинде ядролонуу жана өсүү процесстерин камтыйт.
2. Вакуумдук буулануу каптоосунун чөкмө вакуумдук даражасы жогору, жалпысынан 10-510-3Па. Газ молекулаларынын эркин жолу 1~10 м чоңдук тартибинде, бул буулануу булагынан даярдалуучу бөлүккө чейинки аралыктан алда канча чоң, бул аралык буулануу аралыгы деп аталат, жалпысынан 300~800 мм. Каптоо бөлүкчөлөрү газ молекулалары жана буу атомдору менен дээрлик кагылышпайт жана даярдалуучу бөлүккө жетет.
3. Вакуумдук буулануу менен каптоо катмары оролгон эмес жана буу атомдору жогорку вакуум астында түз эле жумуш бөлүкчөсүнө барат. Жумуш бөлүкчөсүндөгү буулануу булагына караган тарабы гана пленка катмарын ала алат, ал эми жумуш бөлүкчөсүнүн капталы жана арткы бети пленка катмарын араң ала алат жана пленка катмары начар капталган.
4. Вакуумдук буулануу менен каптоо катмарынын бөлүкчөлөрүнүн энергиясы аз, ал эми жумуш бөлүкчөсүнө жеткен энергия буулануу менен ташылган жылуулук энергиясы болуп саналат. Жумуш бөлүкчөсү вакуумдук буулануу менен каптоо учурунда бир жактуу болбогондуктан, металл атомдору буулануу учурунда буулануу жылуулугуна гана таянат, буулануу температурасы 1000~2000 °C, ал эми ташылган энергия 0,1~0,2 эВге барабар, ошондуктан пленка бөлүкчөлөрүнүн энергиясы аз, пленка катмары менен матрицанын ортосундагы байланыш күчү аз жана кошулма каптоону түзүү кыйын.
5. Вакуумдук буулануу менен каптоо катмары жука түзүлүшкө ээ. Вакуумдук буулануу менен каптоо процесси жогорку вакуум астында пайда болот, ал эми буудагы пленка бөлүкчөлөрү негизинен атомдук масштабда болуп, жумуш бөлүкчөсүнүн бетинде жука өзөктү түзөт.
Жарыяланган убактысы: 2023-жылдын 14-июну