1. Orevestimento por evaporação a vácuoO processo inclui a evaporação de materiais de filme, o transporte de átomos de vapor em alto vácuo e o processo de nucleação e crescimento de átomos de vapor na superfície da peça de trabalho.
2. O grau de vácuo de deposição do revestimento por evaporação a vácuo é alto, geralmente entre 10 e 510.-3O livre percurso das moléculas de gás é da ordem de 1 a 10 metros, muito maior que a distância entre a fonte de evaporação e a peça de trabalho, distância essa denominada distância de evaporação, geralmente entre 300 e 800 mm. As partículas de revestimento praticamente não colidem com as moléculas de gás e os átomos de vapor para atingir a peça de trabalho.
3. A camada de revestimento por evaporação a vácuo não é depositada por enrolamento, e os átomos de vapor vão diretamente para a peça de trabalho sob alto vácuo. Apenas a face da peça voltada para a fonte de evaporação consegue formar a camada de filme, sendo que as laterais e a parte traseira da peça dificilmente a recebem, resultando em uma camada de revestimento de baixa qualidade.
4. A energia das partículas da camada de revestimento por evaporação a vácuo é baixa, e a energia que atinge a peça de trabalho é a energia térmica transportada pela evaporação. Como a peça de trabalho não é polarizada durante o revestimento por evaporação a vácuo, os átomos de metal dependem apenas do calor de vaporização durante a evaporação. A temperatura de evaporação é de 1000 a 2000 °C, e a energia transportada é equivalente a 0,1 a 0,2 eV. Portanto, a energia das partículas do filme é baixa, a força de ligação entre a camada do filme e a matriz é pequena e é difícil formar um revestimento composto.
5. A camada de revestimento por evaporação a vácuo possui uma estrutura fina. O processo de revestimento por evaporação a vácuo é realizado sob alto vácuo, e as partículas do filme no vapor são basicamente de escala atômica, formando um núcleo fino na superfície da peça.
Data da publicação: 14 de junho de 2023