1. Thepremaz vakuumskim isparavanjemproces uključuje isparavanje materijala filma, transport atoma pare u visokom vakuumu i proces nukleacije i rasta atoma pare na površini obratka.
2. Stupanj vakuumskog taloženja premaza vakuumskim isparavanjem je visok, općenito 10-510-3Pa. Slobodni put molekula plina je 1 ~ 10 m reda veličine, što je mnogo veće od udaljenosti od izvora isparavanja do obratka, ta se udaljenost naziva udaljenost isparavanja, općenito 300 ~ 800 mm.Čestice premaza teško se sudaraju s molekulama plina i atomima pare i dopiru do izratka.
3. Sloj premaza vakuumskim isparavanjem nije omotan, a atomi pare idu ravno na radni komad pod visokim vakuumom.Samo strana koja je okrenuta prema izvoru isparavanja na izratku može dobiti sloj filma, a strana i stražnja strana izratka teško mogu dobiti sloj filma, a sloj filma ima lošu oplatu.
4. Energija čestica sloja premaza vakuumskim isparavanjem je niska, a energija koja dolazi do obratka je toplinska energija nošena isparavanjem.Budući da obradak nije pristran tijekom nanošenja premaza vakuumskim isparavanjem, atomi metala oslanjaju se samo na toplinu isparavanja tijekom isparavanja, temperatura isparavanja je 1000~2000 °C, a prenesena energija je ekvivalentna 0,1~0,2eV, tako da energija čestica filma je nizak, sila vezivanja između sloja filma i matrice je mala i teško je formirati složeni premaz.
5. Sloj premaza vakuumskim isparavanjem ima finu strukturu.Proces plastificiranja vakuumskim isparavanjem nastaje pod visokim vakuumom, a čestice filma u pari su u osnovi atomske ljestvice, tvoreći finu jezgru na površini obratka.
Vrijeme objave: 14. lipnja 2023