1. Anupalapis penguapan vakumProsés ieu ngawengku penguapan bahan pilem, transportasi atom uap dina vakum anu luhur, sareng prosés nukleasi sareng kamekaran atom uap dina permukaan benda kerja.
2. Darajat vakum déposisi tina palapis penguapan vakum luhur, umumna 10-510-3Pa. Jalur bébas molekul gas nyaéta 1 ~ 10 m, anu jauh leuwih gedé tibatan jarak ti sumber penguapan ka benda kerja, jarak ieu disebut jarak penguapan, umumna 300 ~ 800 mm. Partikel palapis hésé tabrakan sareng molekul gas sareng atom uap sareng ngahontal benda kerja.
3. Lapisan palapis penguapan vakum sanés palapis anu dibungkus, sareng atom uap langsung ka benda kerja dina vakum anu luhur. Ngan sisi anu nyanghareup sumber penguapan dina benda kerja anu tiasa kéngingkeun lapisan pilem, sareng sisi sareng tukang benda kerja hésé kéngingkeun lapisan pilem, sareng lapisan pilemna gaduh palapis anu goréng.
4. Énergi partikel lapisan palapis penguapan vakum rendah, sareng énergi anu dugi ka benda kerja nyaéta énergi panas anu dibawa ku penguapan. Kusabab benda kerja henteu bias nalika palapis penguapan vakum, atom logam ngan ukur ngandelkeun panas penguapan nalika penguapan, suhu penguapan nyaéta 1000 ~ 2000 °C, sareng énergi anu dibawa sami sareng 0,1 ~ 0,2 eV, janten énergi partikel pilem rendah, gaya beungkeutan antara lapisan pilem sareng matriks leutik, sareng hésé pikeun ngabentuk palapis sanyawa.
5. Lapisan palapis penguapan vakum mibanda struktur anu lemes. Prosés palapis penguapan vakum kabentuk dina vakum anu luhur, sareng partikel pilem dina uap dasarna skala atom, ngabentuk inti anu lemes dina permukaan benda kerja.
Waktos posting: 14 Juni 2023