1. DieVakuumverdampfungsbeschichtungDer Prozess umfasst die Verdampfung von Filmmaterialien, den Transport von Dampfatomen im Hochvakuum sowie die Keimbildung und das Wachstum von Dampfatomen auf der Oberfläche des Werkstücks.
2. Der Abscheidungsvakuumgrad bei der Vakuumverdampfung ist hoch, im Allgemeinen 10-510-3Die freie Weglänge von Gasmolekülen liegt in der Größenordnung von 1–10 m und ist damit deutlich größer als der Abstand zwischen Verdampfungsquelle und Werkstück. Dieser Abstand wird als Verdampfungsabstand bezeichnet und beträgt üblicherweise 300–800 mm. Die Beschichtungspartikel kollidieren daher kaum mit Gasmolekülen und Dampfatomen und erreichen so das Werkstück nicht.
3. Die Vakuumverdampfungsbeschichtung erfolgt nicht durch Wickeln, sondern die Dampfatome treffen unter Hochvakuum direkt auf das Werkstück. Nur die der Verdampfungsquelle zugewandte Seite des Werkstücks bildet eine Schicht, während die Seiten und die Rückseite kaum oder gar nicht beschichtet werden und die Beschichtungsqualität schlecht ist.
4. Die Energie der Partikel der Vakuumverdampfungsschicht ist gering, und die auf das Werkstück übertragene Energie entspricht der Verdampfungswärme. Da das Werkstück während der Vakuumverdampfung nicht vorgespannt ist, nutzen die Metallatome ausschließlich die Verdampfungswärme. Die Verdampfungstemperatur liegt zwischen 1000 und 2000 °C, und die übertragene Energie beträgt 0,1 bis 0,2 eV. Daher ist die Energie der Filmpartikel gering, die Bindungskräfte zwischen Filmschicht und Matrix schwach, und die Bildung einer Verbundbeschichtung ist schwierig.
5. Die Vakuumverdampfungsbeschichtung weist eine feine Struktur auf. Das Vakuumverdampfungsverfahren findet unter Hochvakuum statt, wobei die Filmpartikel im Dampf im Wesentlichen atomar klein sind und einen feinen Kern auf der Werkstückoberfläche bilden.
Veröffentlichungsdatum: 14. Juni 2023