ZHCVD1200

De apparatuer brûkt benammen gemyske dampôfsetting om in oksidefilm te meitsjen, dy't de skaaimerken hat fan in rappe ôfsettingssnelheid en hege filmkwaliteit. Wat de struktuer fan 'e apparatuer oanbelanget, wurdt de dûbele doarstruktuer brûkt om de klemeffisjinsje te ferbetterjen, en it nijste systeem foar floeibere gasfoarsjenning wurdt oannaam om in stabile en kontrolearbere stream te garandearjen en de prosesstabiliteit effektyf te garandearjen. De film dy't troch de apparatuer taret wurdt, hat in goede wetterdampbarriêre en in langere stabile perioade yn 'e siedtest.
De apparatuer kin tapast wurde op roestfrij stiel, elektroplateare hardware/plestik ûnderdielen, glês, keramyk en oare materialen, lykas elektroanyske produkten, LED-ljochtkralen, medyske foarrieden en oare produkten dy't oksidaasjebestriding nedich binne. SiOx-barriêrefilm is benammen taret om wetterdamp effektyf te blokkearjen, korrosje en oksidaasje te foarkommen en de libbensdoer fan it produkt te ferbetterjen.