Volframilanka kuumennetaan korkeaan lämpötilaan, jolloin kuumia elektroneja emittoi tiheä elektronivirta. Samanaikaisesti kiihdytyselektrodi asetetaan kiihdyttämään kuumia elektroneja korkeaenergiseksi elektronivirraksi. Tiheä ja korkeaenerginen elektronivirta voi johtaa voimakkaampaan kloorin ionisaatioon, jolloin useammat metallikalvokerroksen atomit ionisoituvat, jolloin saadaan enemmän kloridi-ioneja, mikä parantaa sputterointinopeutta ja siten lisää laskeutumisnopeutta. Metallikalvokerroksen ionit voivat parantaa metallin ionisaationopeutta, mikä edistää yhdistekalvon laskeutumisreaktiota. Metallikalvokerroksen ionit pääsevät työkappaleeseen parantaen työkappaleen virrantiheyttä ja siten lisäämällä laskeutumisnopeutta.
Magnetronsputterointikovissa pinnoitteissa kuumakatodin etu- ja takapinnalla työkappaleen virrantiheys ja kalvon rakenne lisääntyvät. Ennen kuumakatodin lisäämistä TiSiCN:n virrantiheys työkappaleessa on vain 0,2 mA/mm2, kun taas kuumakatodin lisäämisen jälkeen virrantiheys on 4,9 mA/mm2, mikä vastaa noin 24-kertaista kasvua, ja kalvon rakenne on tiheämpi. Voidaan nähdä, että magnetronsputterointipinnoitustekniikassa kuumakatodin lisääminen parantaa erittäin tehokkaasti magnetronsputterointikerrostumisnopeutta ja kalvohiukkasten aktiivisuutta. Tämä teknologia voi merkittävästi parantaa turbiinisiipien, lietepumppujen mäntien ja jauhimen osien käyttöikää.
–Tämä artikkeli on julkaistutyhjiöpinnoituskoneiden valmistajaGuangdong Zhenhua
Julkaisun aika: 11.10.2023