U filamentu di tungstenu hè riscaldatu à una temperatura alta chì emette elettroni caldi per emette un flussu di elettroni à alta densità, è à u listessu tempu un elettrodu acceleratore hè stallatu per accelerà l'elettroni caldi in un flussu di elettroni à alta energia. U flussu di elettroni à alta densità è alta energia pò esse più ionizazione di cloru, più atomi di stratu di film metallicu ionizzati per ottene più ioni di cloruru per migliurà a velocità di sputtering, aumentendu cusì a velocità di deposizione: pò esse più ionizazione di metalli per migliurà a velocità di ionizazione di metalli, favurevule à a reazione di a deposizione di u film cumpostu; ioni di stratu di film metallicu per ghjunghje à u pezzu di travagliu per migliurà a densità di corrente di u pezzu di travagliu, aumentendu cusì a velocità di deposizione.
In u rivestimentu duru di sputtering magnetron, aumentu di a densità di corrente è di l'urganizazione di u film di a parte anteriore è posteriore di a catodizazione calda. TiSiCN prima di l'aghjunta di u catodu caldu, a densità di corrente nantu à a parte anteriore è posteriore di a pezza hè solu 0,2 mA/mm2, dopu l'aumentu di u catodu caldu à 4,9 mA/mm2, chì hè equivalente à un aumentu di circa 24 volte, è l'urganizazione di u film hè più densa. Si pò vede chì in a tecnulugia di rivestimentu di sputtering magnetron, l'aghjunta di un catodu caldu hè assai efficace per migliurà a velocità di deposizione di sputtering magnetron è l'attività di e particelle di u film. Sta tecnulugia pò migliurà significativamente a vita di e pale di e turbine, di i pistoni di e pompe di fangu è di e parti di a smerigliatrice.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 11 d'ottobre di u 2023