ZHCVD1200

L'equip utilitza principalment la deposició química de vapor per preparar una pel·lícula d'òxid, que té les característiques d'una velocitat de deposició ràpida i una alta qualitat de la pel·lícula. Pel que fa a l'estructura de l'equip, s'utilitza una estructura de doble porta per millorar l'eficiència de subjecció i s'adopta el sistema de subministrament de gas líquid més recent per garantir un flux estable i controlable i garantir eficaçment l'estabilitat del procés. La pel·lícula preparada per l'equip té una bona barrera de vapor d'aigua i un període estable més llarg en la prova d'ebullició.
L'equip es pot aplicar a acer inoxidable, peces de maquinari/plàstic galvanitzades, vidre, ceràmica i altres materials, com ara productes electrònics, perles de llum LED, subministraments mèdics i altres productes que necessiten resistència a l'oxidació. La pel·lícula de barrera de SiOx està preparada principalment per bloquejar eficaçment el vapor d'aigua, prevenir la corrosió i l'oxidació i millorar la vida útil del producte.