El filament de tungstè s'escalfa a una temperatura elevada que emet electrons calents per emetre un flux d'electrons d'alta densitat, i al mateix temps es configura un elèctrode accelerador per accelerar els electrons calents en un flux d'electrons d'alta energia. El flux d'electrons d'alta densitat i alta energia pot ser més ionització de clor, més àtoms de capa de pel·lícula metàl·lica ionitzats per obtenir més ions de clorur per millorar la velocitat de polvorització, augmentant així la velocitat de deposició: pot ser més ionització metàl·lica per millorar la velocitat d'ionització metàl·lica, propici a la reacció de la deposició de la pel·lícula composta; els ions de la capa de pel·lícula metàl·lica per arribar a la peça de treball milloren la densitat de corrent de la peça de treball, augmentant així la velocitat de deposició.
En el recobriment dur per pulverització catòdica magnetrònica, augmenta la densitat de corrent i l'organització de la pel·lícula a la part frontal i posterior de la peça de treball durant la catodització en calent. Abans de l'addició del càtode calent del TiSiCN, la densitat de corrent a la peça és només de 0,2 mA/mm2, però després de l'augment del càtode calent a 4,9 mA/mm2, que equival a un augment de 24 vegades aproximadament, l'organització de la pel·lícula és més densa. Es pot veure que en la tecnologia de recobriment per pulverització catòdica magnetrònica, l'addició d'un càtode calent és molt eficaç per millorar la taxa de deposició per pulverització catòdica magnetrònica i l'activitat de les partícules de la pel·lícula. Aquesta tecnologia pot millorar significativament la vida útil de les pales de les turbines, els èmbols de les bombes de fang i les peces de la mòlta.
–Aquest article ha estat publicat perfabricant de màquines de recobriment al buitGuangdong Zhenhua
Data de publicació: 11 d'octubre de 2023