ZHCVD1200

Oprema uglavnom koristi hemijsko nanošenje pare za pripremu oksidnog filma, koji ima karakteristike brze brzine nanošenja i visokog kvaliteta filma. Što se tiče strukture opreme, dvostruka vrata se koriste za poboljšanje efikasnosti stezanja, a najnoviji sistem za dovod tečnog gasa se koristi kako bi se osigurao stabilan i kontrolisan protok i efikasno osigurala stabilnost procesa. Film pripremljen opremom ima dobru parnu barijeru i duži period stabilnosti u testu ključanja.
Oprema se može primijeniti na nehrđajući čelik, galvanizirane hardverske/plastične dijelove, staklo, keramiku i druge materijale, kao što su elektronički proizvodi, LED svjetlosne perle, medicinski pribor i drugi proizvodi kojima je potrebna otpornost na oksidaciju. SiOx barijerna folija je uglavnom pripremljena da efikasno blokira vodenu paru, spriječi koroziju i oksidaciju te poboljša vijek trajanja proizvoda.