የሲቪዲ ቴክኖሎጂ ዓይነቶች

በሰፊው ሲናገር, ሲቪዲ በግምት በሁለት ዓይነት ሊከፈል ይችላል: አንዱ በጠባብ CVD ነው ነጠላ-ክሪስታል epitaxial ንብርብር ያለውን substrate ተን ክምችት ላይ ነጠላ ምርት ውስጥ ነው; ሌላው ባለ ብዙ ምርት እና አሞርፊክ ፊልሞችን ጨምሮ በቀጭኑ ፊልሞች ላይ በንጣፉ ላይ ማስቀመጥ ነው. ጥቅም ላይ በሚውሉት የተለያዩ የጋዞች አይነቶች መሰረት ሲቪዲ በሃሎጅን ማጓጓዣ ዘዴ እና በብረት-ኦርጋኒክ ኬሚካላዊ ትነት ማጠራቀሚያ (MOCVD) ሊከፈል ይችላል, የቀድሞው ወደ ሃሎይድ እንደ ጋዝ ምንጭ, የኋለኛው ወደ ብረት-ኦርጋኒክ ውህዶች እንደ ጋዝ ምንጭ. በምላሹ ክፍል ውስጥ ባለው ግፊት መሠረት በሦስት ዋና ዋና ዓይነቶች ይከፈላል-የከባቢ አየር ግፊት ሲቪዲ (ኤፒሲቪዲ) ፣ ዝቅተኛ ግፊት ሲቪዲ (ኤልፒሲቪዲ) እና እጅግ በጣም ከፍተኛ ቫክዩም ሲቪዲ (UHV/CVD) ሲቪዲ እንዲሁ በሃይል የተሻሻለ ረዳት ዘዴ ሆኖ ሊያገለግል ይችላል ፣ እና በአሁኑ ጊዜ የተለመዱት ፕላዝማ እና ሲቪዲኤንኤን ያካትታሉ ። (ፒሲቪዲ)፣ ወዘተ. ሲቪዲ በመሠረቱ ጋዝ-ደረጃ የማስቀመጫ ዘዴ ነው።

ሲቪዲ (CVD) በመሠረቱ በጋዝ-ፋስ ንጥረ ነገር በኬሚካላዊ ምላሽ በከፍተኛ ሙቀት ውስጥ በንጥረ ነገር ላይ የተቀመጠ ጠንካራ ንጥረ ነገር እንዲፈጠር የሚያደርግ የፊልም መፈጠር ዘዴ ነው። በተለይም የሚለዋወጠው የብረት ሃሎይድ ወይም የብረት ኦርጋኒክ ውህዶች እንደ ኤች፣አር ወይም ኤን ካሉ ተያያዥ ጋዝ ጋር ይደባለቃሉ፣ ከዚያም በወጥነት ወደ ከፍተኛ ሙቀት ወደ ምላሽ ክፍል ውስጥ በማጓጓዝ በኬሚካላዊ ምላሽ በንጥረ-ነገር ላይ ቀጭን ፊልም ይሠራል። የትኛውም የሲቪዲ ዓይነት, ማስቀመጫ በተሳካ ሁኔታ ሊከናወን ይችላል, የሚከተሉትን መሰረታዊ ሁኔታዎች ማሟላት አለበት: በመጀመሪያ, በተቀማጭ የሙቀት መጠን ውስጥ, ሬክተሮች በቂ የሆነ ከፍተኛ የእንፋሎት ግፊት ሊኖራቸው ይገባል; በሁለተኛ ደረጃ, የምላሽ ምርት, ለጠንካራ ሁኔታ ከሚፈለገው ተቀማጭ በተጨማሪ, የቀረው የጋዝ ሁኔታ; ሦስተኛው, ተቀማጭ ራሱ በበቂ ዝቅተኛ የእንፋሎት ግፊት መሆን አለበት ተቀማጭ ምላሽ ሂደት የጦፈ substrate መላው ሂደት ውስጥ መቀመጥ የሚችል መሆኑን ለማረጋገጥ; አራተኛ, የ substrate ቁሳዊ ወጥ የሆነ ቀጭን ፊልም ለማቋቋም ኬሚካላዊ ምላሽ በኩል, substrate ላይ ምላሽ ክፍል በማጓጓዝ ነው. አራተኛ፣ የንዑሳን ቁሳቁሱ የእንፋሎት ግፊት በራሱ በተቀማጭ የሙቀት መጠን ዝቅተኛ መሆን አለበት።

- ይህ ጽሑፍ ተለቋል byየቫኩም ሽፋን ማሽን አምራችጓንግዶንግ ዠንዋ