ZHCVD1200

Опремата главно прифаќа хемиско таложење на пареа за да се подготви оксиден филм, кој има карактеристики на брза стапка на таложење и висок квалитет на филмот.Што се однесува до структурата на опремата, структурата на двојната врата се користи за подобрување на ефикасноста на стегање, а најновиот систем за снабдување со течен гас е усвоен за да се обезбеди стабилен и контролиран проток и ефикасно да се обезбеди стабилност на процесот.Филмот подготвен од опремата има добра бариера на водена пареа и подолг стабилен период на тест на вриење.
Опремата може да се примени на нерѓосувачки челик, галванизиран хардвер / пластични делови, стакло, керамика и други материјали, како што се електронски производи, LED светлосни мониста, медицински материјали и други производи на кои им е потребна отпорност на оксидација.Филмот за бариера SiOx главно е подготвен за ефикасно блокирање на водена пареа, спречување на корозија и оксидација и подобрување на животниот век на производот.