1.vakum buharlaştırma kaplamasıİşlem, film malzemelerinin buharlaştırılmasını, buhar atomlarının yüksek vakumda taşınmasını ve iş parçasının yüzeyinde buhar atomlarının çekirdeklenmesi ve büyümesi sürecini içerir.
2. Vakum buharlaştırma kaplamasının biriktirme vakum derecesi yüksektir, genellikle 10-510-3Pa. Gaz moleküllerinin serbest yolu 1~10m mertebesindedir, bu buharlaşma kaynağından iş parçasına olan mesafeden çok daha büyüktür, bu mesafeye buharlaşma mesafesi denir, genellikle 300~800mm'dir. Kaplama parçacıkları gaz molekülleri ve buhar atomlarıyla neredeyse hiç çarpışmaz ve iş parçasına ulaşır.
3. Vakum buharlaştırma kaplama tabakası sarılı kaplama değildir ve buhar atomları yüksek vakum altında doğrudan iş parçasına gider. Sadece iş parçasında buharlaşma kaynağına bakan taraf film tabakasını elde edebilir ve iş parçasının yan ve arkası film tabakasını zorlukla elde edebilir ve film tabakasının kaplaması zayıftır.
4. Vakum buharlaştırma kaplama tabakasının parçacıklarının enerjisi düşüktür ve iş parçasına ulaşan enerji buharlaşmanın taşıdığı ısı enerjisidir. İş parçası vakum buharlaştırma kaplaması sırasında önyargılı olmadığından, metal atomları buharlaşma sırasında yalnızca buharlaşma ısısına güvenir, buharlaşma sıcaklığı 1000~2000 °C'dir ve taşınan enerji 0,1~0,2 eV'ye eşdeğerdir, bu nedenle film parçacıklarının enerjisi düşüktür, film tabakası ile matris arasındaki bağlanma kuvveti küçüktür ve bileşik bir kaplama oluşturmak zordur.
5. Vakum buharlaştırma kaplama tabakası ince bir yapıya sahiptir. Vakum buharlaştırma kaplama işlemi yüksek vakum altında oluşturulur ve buhardaki film parçacıkları temelde atomik ölçektedir ve iş parçasının yüzeyinde ince bir çekirdek oluşturur.
Gönderi zamanı: 14-Haz-2023