(4) วัสดุเป้าหมาย วัสดุเป้าหมายเป็นกุญแจสำคัญในการเคลือบแบบสปัตเตอร์ โดยทั่วไป ตราบใดที่วัสดุเป้าหมายตรงตามข้อกำหนด และควบคุมพารามิเตอร์ของกระบวนการอย่างเข้มงวด ก็สามารถสร้างชั้นฟิล์มได้ สิ่งเจือปนในวัสดุเป้าหมาย ออกไซด์บนพื้นผิว และสารเจือปนอื่นๆ เป็นแหล่งสำคัญของการปนเปื้อนของฟิล์ม ดังนั้น เพื่อให้ได้ชั้นที่มีความบริสุทธิ์สูง นอกจากการใช้วัสดุเป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูงแล้ว ในการสปัตเตอร์แต่ละครั้ง ควรทำการสปัตเตอร์ล่วงหน้ากับเป้าหมายก่อน เพื่อทำความสะอาดพื้นผิวของเป้าหมาย และกำจัดชั้นออกไซด์บนพื้นผิวของเป้าหมาย
(5) สุญญากาศพื้นหลัง ระดับของสุญญากาศพื้นหลังสะท้อนถึงปริมาณก๊าซตกค้างในระบบโดยตรง และก๊าซตกค้างยังเป็นแหล่งสำคัญของการปนเปื้อนของชั้นฟิล์ม ดังนั้นควรปรับปรุงสุญญากาศพื้นหลังให้ดีที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้ ปัญหาการปนเปื้อนอีกประการหนึ่งคือปั๊มกระจายน้ำมันไหลย้อนกลับไปยังน้ำมัน ส่งผลให้เกิดการเจือปนคาร์บอนในเมมเบรน ข้อกำหนดที่เข้มงวดมากขึ้นของเมมเบรนควรใช้มาตรการที่เหมาะสมหรือใช้ระบบปั๊มสุญญากาศสูงแบบไร้น้ำมัน
(6) แรงดันอากาศสปัตเตอร์ แรงดันอากาศในการทำงานส่งผลโดยตรงต่ออัตราการตกตะกอนของเมมเบรน
นอกจากนี้ เนื่องจากอุปกรณ์สปัตเตอร์ริ่งที่แตกต่างกันส่งผลต่อสนามไฟฟ้า บรรยากาศ วัสดุเป้าหมาย อุณหภูมิของพื้นผิว และโครงสร้างทางเรขาคณิตของพารามิเตอร์การปฏิสัมพันธ์ระหว่างเมมเบรนในการผลิต จึงจำเป็นต้องทำการทดลองเกี่ยวกับพารามิเตอร์ของกระบวนการ เพื่อหาเงื่อนไขกระบวนการที่ดีที่สุด
–บทความนี้เผยแพร่โดยผู้ผลิตเครื่องเคลือบสุญญากาศกว่างตงเจิ้นหัว
วันที่โพสต์: 5 มกราคม 2024