(4) Bahan sasaran. Bahan sasaran adalah kunci kepada salutan percikan, secara amnya, selagi bahan sasaran memenuhi keperluan, dan kawalan ketat terhadap parameter proses mungkin diperlukan untuk mendapatkan lapisan filem. Bendasing dalam bahan sasaran dan oksida permukaan serta bahan tidak tulen lain merupakan sumber pencemaran filem yang penting, jadi untuk mendapatkan lapisan ketulenan yang tinggi, selain penggunaan bahan sasaran ketulenan yang tinggi, dalam setiap percikan haruslah sasaran pertama untuk pra-percikan untuk membersihkan permukaan sasaran, untuk membuang permukaan sasaran lapisan oksida.
(5) Vakum latar belakang. Tahap vakum latar belakang secara langsung mencerminkan jumlah gas sisa dalam sistem, dan gas sisa juga merupakan sumber pencemaran penting lapisan filem, jadi vakum latar belakang harus diperbaiki sebanyak mungkin. Masalah lain yang berkaitan dengan pencemaran ialah pam resapan minyak kembali ke minyak, mengakibatkan doping karbon dalam membran, keperluan membran yang lebih ketat harus mengambil langkah yang sesuai atau menggunakan sistem pam vakum tinggi bebas minyak.
(6) tekanan udara percikan. Tekanan udara kerja secara langsung mempengaruhi kadar pemendapan membran.
Di samping itu, disebabkan oleh peranti percikan yang berbeza dalam medan elektrik, atmosfera, bahan sasaran, suhu substrat dan struktur geometri parameter interaksi antara membran untuk menghasilkan keperluan, adalah perlu untuk melakukan eksperimen pada parameter proses, dari mana keadaan proses terbaik diperoleh.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 5-Jan-2024