(4) Материал мишени. Материал мишени является ключевым фактором при нанесении покрытий методом магнетронного распыления. Как правило, достаточно, чтобы материал мишени соответствовал требованиям, однако для получения пленочного слоя может потребоваться строгий контроль параметров процесса. Примеси в материале мишени, поверхностные оксиды и другие примеси являются важным источником загрязнения пленки, поэтому для получения высокочистого слоя, помимо использования высокочистого материала мишени, при каждом распылении следует проводить предварительное распыление на мишень для очистки ее поверхности и удаления оксидного слоя с поверхности мишени.
(5) Фоновый вакуум. Уровень фонового вакуума напрямую отражает количество остаточного газа в системе, а остаточный газ также является важным источником загрязнения пленочного слоя, поэтому фоновый вакуум следует максимально улучшить. Еще одна проблема загрязнения – это обратный поток масла из диффузионного насоса в масло, приводящий к легированию мембраны углеродом. Для более жестких требований к мембране следует принять соответствующие меры или использовать безмасляную высоковакуумную насосную систему.
(6) давление воздуха для распыления. Рабочее давление воздуха напрямую влияет на скорость осаждения мембраны.
Кроме того, в связи с различиями в параметрах электрического поля, атмосферы, материала мишени, температуры подложки и геометрической структуры устройств для распыления, а также в параметрах взаимодействия между мембраной и требуемыми свойствами, необходимо проводить эксперименты по параметрам процесса, на основе которых можно определить оптимальные условия процесса.
– Данная статья опубликованапроизводитель вакуумных напыляемых машинГуандун Чжэньхуа
Дата публикации: 05.01.2024