(4) Matériau cible. Le matériau cible est essentiel au revêtement par pulvérisation cathodique. En général, il suffit qu'il réponde aux exigences et qu'un contrôle rigoureux des paramètres de procédé soit nécessaire pour obtenir une couche de revêtement de haute pureté. Les impuretés présentes dans le matériau cible, les oxydes de surface et autres substances impures constituent une source importante de contamination du film. Par conséquent, afin d'obtenir une couche de haute pureté, outre l'utilisation d'un matériau cible de haute pureté, il est indispensable, lors de chaque pulvérisation, de procéder à un prétraitement de la cible afin de nettoyer sa surface et d'éliminer la couche d'oxyde.
(5) Vide ambiant. Le niveau de vide ambiant reflète directement la quantité de gaz résiduel dans le système. Or, les gaz résiduels constituent une source importante de contamination de la couche de film. Il est donc essentiel d'améliorer le vide ambiant autant que possible. Un autre problème de pollution est le retour de l'huile de la pompe à diffusion vers l'huile, ce qui entraîne un dopage au carbone de la membrane. Pour répondre aux exigences plus strictes concernant la membrane, il convient de prendre les mesures appropriées ou d'utiliser un système de pompage à vide poussé sans huile.
(6) Pression d'air de pulvérisation. La pression d'air de travail influe directement sur le taux de dépôt de la membrane.
De plus, en raison des différents dispositifs de pulvérisation cathodique, du champ électrique, de l'atmosphère, du matériau cible, de la température du substrat et de la structure géométrique des paramètres d'interaction entre la membrane et le dispositif, il est nécessaire de réaliser des expériences sur les paramètres du processus afin de déterminer les meilleures conditions de traitement.
–Cet article est publié parfabricant de machines de revêtement sous videGuangdong Zhenhua
Date de publication : 5 janvier 2024