(4) 타겟 재료. 타겟 재료는 스퍼터링 코팅의 핵심이며, 일반적으로 타겟 재료가 요구 사항을 충족하고 공정 매개변수를 엄격하게 제어하면 필름층을 얻을 수 있습니다. 타겟 재료의 불순물과 표면 산화물 및 기타 불순물은 필름 오염의 중요한 원인이므로 고순도 층을 얻기 위해서는 고순도 타겟 재료를 사용하는 것 외에도 각 스퍼터링에서 타겟 표면을 세척하고 타겟 표면의 산화층을 제거하기 위해 먼저 타겟을 프리 스퍼터링해야 합니다.
(5) 배경 진공. 배경 진공 수준은 시스템 내 잔류 가스의 양을 직접적으로 반영하며, 잔류 가스는 필름층 오염의 중요한 원인이기도 하므로 배경 진공을 최대한 향상시켜야 합니다. 또 다른 오염 문제는 오일 확산 펌프가 오일로 역류하여 멤브레인에 탄소 도핑을 유발하는 것인데, 멤브레인에 대한 요구 사항이 더욱 엄격한 경우에는 적절한 조치를 취하거나 오일이 없는 고진공 펌핑 시스템을 사용해야 합니다.
(6) 스퍼터링 공기압. 작동 공기압은 막의 증착 속도에 직접적인 영향을 미칩니다.
또한, 스퍼터링 장치의 전기장, 분위기, 타겟 재료, 기판 온도 및 기하학적 구조와 같은 매개변수들이 막 형성에 필요한 상호작용을 좌우하기 때문에, 최적의 공정 조건을 찾기 위해 공정 매개변수에 대한 실험을 수행해야 합니다.
이 기사는 다음에서 발표했습니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2024년 1월 5일