(4) Sihtmaterjal. Sihtmaterjal on üldiselt pihustuskatmise võti, kui sihtmaterjal vastab nõuetele ja kilekihi saamiseks võib olla vajalik protsessiparameetrite range kontroll. Sihtmaterjali lisandid ning pinnaoksiidid ja muud ebapuhtad ained on kile saastumise oluline allikas. Seega, et saada kõrge puhtusastmega kiht, tuleks lisaks kõrge puhtusastmega sihtmaterjali kasutamisele igal pihustamisel kõigepealt sihtmärk eelnevalt pritsida, et puhastada sihtmärgi pinda ja eemaldada sihtmärgi pinnalt oksiidikiht.
(5) Taustavaakum. Taustavaakumi tase peegeldab otseselt süsteemis oleva jääkgaasi hulka ja jääkgaas on samuti oluline kilekihi saastumise allikas, seega tuleks taustavaakumit võimalikult palju parandada. Teine probleem on õli difusioonpumba tagasivooluga õlisse, mille tulemuseks on süsiniku lisamine membraanile. Membraani rangemate nõuete korral tuleks võtta asjakohaseid meetmeid või kasutada õlivaba kõrgvaakumpumba süsteemi.
(6) pihustusõhu rõhk. Tööõhu rõhk mõjutab otseselt membraani sadestumiskiirust.
Lisaks, kuna erinevate pritsimisseadmete elektrivälja, atmosfääri, sihtmärgi materjali, aluspinna temperatuuri ja membraani vastastikmõju parameetrid vastavad erinevatele parameetritele, on vaja teha katseid protsessi parameetritega, et leida parimad protsessitingimused.
– Selle artikli avaldasvaakumkatmismasinate tootjaGuangdongi Zhenhua
Postituse aeg: 05.01.2024