(4) Максат материалы. Максат материалы, гомумән алганда, сиптерү каплавы өчен төп фактор булып тора, максат материалы таләпләргә туры килгән очракта, һәм пленка катламын алу өчен процесс параметрларын катгый контрольдә тоту кирәк булырга мөмкин. Максат материалындагы катнашмалар һәм өслек оксидлары һәм башка пычрак матдәләр пленка пычрануының мөһим чыганагы булып тора, шуңа күрә югары сафлыклы катлам алу өчен, югары сафлыклы максат материалын кулланудан тыш, һәр сиптерүдә максат өслеген чистарту, оксид катламының максат өслеген бетерү өчен алдан сиптерү өчен беренче максат булырга тиеш.
(5) Фон вакуумы. Фон вакуумы дәрәҗәсе системадагы калдык газ күләмен турыдан-туры чагылдыра, һәм калдык газ шулай ук пленка катламының пычрануының мөһим чыганагы булып тора, шуңа күрә фон вакуумын мөмкин кадәр яхшыртырга кирәк. Тагын бер проблема - май диффузия насосының майга кире кайтуы, нәтиҗәдә мембранада углерод кушылуы. Мембрананың катгыйрак таләпләре буенча тиешле чаралар күрергә яки майсыз югары вакуумлы насос системасын кулланырга кирәк.
(6) сиптерү һава басымы. Эш һава басымы мембрананың утыру тизлегенә турыдан-туры тәэсир итә.
Моннан тыш, электр кырында, атмосферада, максатлы материалда, субстрат температурасында һәм мембрана арасындагы үзара бәйләнеш параметрларының геометрик структурасында төрле сиптерү җайланмалары булу сәбәпле, таләпләрне тудыру өчен, процесс параметрлары буенча экспериментлар үткәрергә кирәк, шулардан иң яхшы процесс шартларын табарга кирәк.
–Бу мәкалә бастырып чыгарылдывакуум каплау машинасы җитештерүчесеГуандун Чжэнхуа
Бастырып чыгару вакыты: 2024 елның 5 гыйнвары