(4) लक्ष्य सामग्री। स्पटरिंग कोटिंग में लक्ष्य सामग्री महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है। सामान्यतः, जब तक लक्ष्य सामग्री आवश्यकताओं को पूरा करती है, तब तक फिल्म परत प्राप्त करने के लिए प्रक्रिया मापदंडों का कड़ा नियंत्रण आवश्यक हो सकता है। लक्ष्य सामग्री में मौजूद अशुद्धियाँ, सतह पर मौजूद ऑक्साइड और अन्य अशुद्ध पदार्थ फिल्म संदूषण का एक महत्वपूर्ण स्रोत हैं। इसलिए, उच्च शुद्धता वाली परत प्राप्त करने के लिए, उच्च शुद्धता वाली लक्ष्य सामग्री के उपयोग के अलावा, प्रत्येक स्पटरिंग में लक्ष्य की सतह को साफ करने और उस पर मौजूद ऑक्साइड परत को हटाने के लिए पहले लक्ष्य की प्री-स्पटरिंग करनी चाहिए।
(5) पृष्ठभूमि निर्वात। पृष्ठभूमि निर्वात का स्तर सीधे तौर पर सिस्टम में अवशिष्ट गैस की मात्रा को दर्शाता है, और अवशिष्ट गैस फिल्म परत के संदूषण का एक महत्वपूर्ण स्रोत भी है, इसलिए पृष्ठभूमि निर्वात को यथासंभव बेहतर बनाया जाना चाहिए। प्रदूषण की एक अन्य समस्या तेल प्रसार पंप द्वारा तेल का वापस आना है, जिसके परिणामस्वरूप झिल्ली में कार्बन का जमाव होता है। झिल्ली की अधिक सख्त आवश्यकताओं के लिए उचित उपाय किए जाने चाहिए या तेल-मुक्त उच्च निर्वात पंपिंग प्रणाली का उपयोग किया जाना चाहिए।
(6) स्पटरिंग वायु दाब। कार्यशील वायु दाब झिल्ली की निक्षेपण दर को सीधे प्रभावित करता है।
इसके अलावा, विद्युत क्षेत्र, वातावरण, लक्ष्य सामग्री, सब्सट्रेट तापमान और झिल्ली के बीच परस्पर क्रिया के मापदंडों की ज्यामितीय संरचना में भिन्नता के कारण, उत्पादन आवश्यकताओं के लिए प्रक्रिया के मापदंडों पर प्रयोग करना आवश्यक है, जिससे सर्वोत्तम प्रक्रिया स्थितियों का पता लगाया जा सके।
–यह लेख द्वारा प्रकाशित किया गया हैवैक्यूम कोटिंग मशीन निर्मातागुआंग्डोंग झेंहुआ
पोस्ट करने का समय: 05 जनवरी 2024