(4) టార్గెట్ మెటీరియల్. స్పుటరింగ్ కోటింగ్కు టార్గెట్ మెటీరియల్ కీలకం, సాధారణంగా, టార్గెట్ మెటీరియల్ అవసరాలను తీర్చినంత కాలం, ఫిల్మ్ పొరను పొందడానికి ప్రక్రియ పారామితులపై కఠినమైన నియంత్రణ అవసరం కావచ్చు. టార్గెట్ మెటీరియల్లోని మలినాలు మరియు ఉపరితల ఆక్సైడ్లు మరియు ఇతర అపరిశుభ్ర పదార్థాలు ఫిల్మ్ కలుషితానికి ఒక ముఖ్యమైన మూలం, కాబట్టి అధిక స్వచ్ఛత గల పొరను పొందడానికి, అధిక స్వచ్ఛత గల టార్గెట్ మెటీరియల్ను ఉపయోగించడంతో పాటు, ప్రతి స్పుటరింగ్లో టార్గెట్ ఉపరితలాన్ని శుభ్రపరచడానికి, టార్గెట్ ఉపరితలంపై ఉన్న ఆక్సైడ్ పొరను తొలగించడానికి మొదటి టార్గెట్ను ప్రీ-స్పుటరింగ్ చేయాలి.
(5) నేపథ్య వాక్యూమ్. నేపథ్య వాక్యూమ్ స్థాయి వ్యవస్థలోని అవశేష వాయువు పరిమాణాన్ని నేరుగా ప్రతిబింబిస్తుంది, మరియు అవశేష వాయువు ఫిల్మ్ పొర కలుషితం కావడానికి కూడా ఒక ముఖ్యమైన మూలం, కాబట్టి నేపథ్య వాక్యూమ్ను వీలైనంత వరకు మెరుగుపరచాలి. కాలుష్యానికి సంబంధించిన మరో సమస్య ఏమిటంటే, ఆయిల్ డిఫ్యూజన్ పంప్ ద్వారా నూనె తిరిగి రావడం, దీని ఫలితంగా మెంబ్రేన్లో కార్బన్ డోపింగ్ జరుగుతుంది, మెంబ్రేన్ యొక్క కఠినమైన అవసరాలు తగిన చర్యలు తీసుకోవాలి లేదా ఆయిల్-ఫ్రీ హై-వాక్యూమ్ పంపింగ్ వ్యవస్థను ఉపయోగించాలి.
(6) స్పుటరింగ్ గాలి పీడనం. పని చేసే గాలి పీడనం నేరుగా పొర యొక్క నిక్షేపణ రేటును ప్రభావితం చేస్తుంది.
అదనంగా, విద్యుత్ క్షేత్రం, వాతావరణం, టార్గెట్ మెటీరియల్, సబ్స్ట్రేట్ ఉష్ణోగ్రత మరియు పొరతో పరస్పర చర్య యొక్క పారామితులలో విభిన్న స్పుటరింగ్ పరికరాల కారణంగా అవసరాలను ఉత్పత్తి చేయడానికి, ప్రక్రియ పారామితులపై ప్రయోగాలు చేయడం అవసరం, వాటి నుండి ఉత్తమ ప్రక్రియ పరిస్థితులను నిర్ణయించాలి.
–ఈ వ్యాసం విడుదల చేసిందివాక్యూమ్ కోటింగ్ మెషిన్ తయారీదారుగ్వాంగ్డాంగ్ జెన్హువా
పోస్ట్ చేసిన సమయం: జనవరి-05-2024