(4) Target nga materyal. Ang target nga materyal mao ang yawe sa sputtering coating, sa kinatibuk-an, basta ang target nga materyal makatuman sa mga kinahanglanon, ug ang estrikto nga pagkontrol sa mga parameter sa proseso mahimong gikinahanglan aron makuha ang film layer. Ang mga hugaw sa target nga materyal ug mga surface oxide ug uban pang hugaw nga mga substansiya usa ka importante nga tinubdan sa kontaminasyon sa film, busa aron makakuha og taas nga kaputli nga layer, dugang sa paggamit sa taas nga kaputli nga target nga materyal, sa matag sputtering kinahanglan nga ang unang target alang sa pre-sputtering aron malimpyohan ang nawong sa target, aron makuha ang target nga nawong sa oxide layer.
(5) Background vacuum. Ang lebel sa background vacuum direktang nagpakita sa gidaghanon sa nahibiling gas sa sistema, ug ang nahibiling gas usa usab ka importante nga tinubdan sa kontaminasyon sa film layer, busa ang background vacuum kinahanglan nga pauswagon kutob sa mahimo. Sa polusyon sa laing problema mao ang oil diffusion pump balik sa lana, nga moresulta sa carbon doping sa lamad, ang mas estrikto nga mga kinahanglanon sa lamad kinahanglan nga mohimo sa angay nga mga lakang o ang paggamit sa oil-free high-vacuum pumping system.
(6) nag-sputtering nga presyon sa hangin. Ang working air pressure direktang makaapekto sa deposition rate sa membrane.
Dugang pa, tungod sa lain-laing mga sputtering device sa electric field, atmospera, target nga materyal, temperatura sa substrate ug geometric nga istruktura sa mga parameter sa interaksyon tali sa lamad aron makamugna og mga kinahanglanon, gikinahanglan ang paghimo og mga eksperimento sa mga parameter sa proseso, diin gikan niini makuha ang labing maayo nga mga kondisyon sa proseso.
–Kini nga artikulo gipagawas nitiggama og vacuum coating machineGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Enero-05-2024