(4) Doelmateriaal. Het doelmateriaal is de sleutel tot sputtercoating. Over het algemeen kan, zolang het doelmateriaal aan de eisen voldoet en de procesparameters strikt worden gecontroleerd, een filmlaag worden verkregen. Onzuiverheden in het doelmateriaal, oppervlakteoxiden en andere onzuivere stoffen zijn een belangrijke bron van filmverontreiniging. Om een zeer zuivere laag te verkrijgen, moet, naast het gebruik van zeer zuiver doelmateriaal, het doel bij elke sputterbehandeling eerst worden voorgesputterd om het oppervlak te reinigen en de oxidelaag te verwijderen.
(5) Achtergrondvacuüm. Het niveau van het achtergrondvacuüm weerspiegelt direct de hoeveelheid restgas in het systeem. Restgas is tevens een belangrijke bron van verontreiniging van de filmlaag, daarom moet het achtergrondvacuüm zoveel mogelijk worden verbeterd. Een ander probleem met verontreiniging is de terugvoer van olie naar de diffusiepomp, wat resulteert in koolstofdotering in het membraan. Voor systemen met strengere eisen aan het membraan moeten passende maatregelen worden genomen of moet een olievrij hoogvacuümpompsysteem worden gebruikt.
(6) Sputterluchtdruk. De werkluchtdruk heeft direct invloed op de afzettingssnelheid van het membraan.
Daarnaast is het, vanwege de verschillende sputterapparaten en de invloed van het elektrische veld, de atmosfeer, het doelmateriaal, de substraattemperatuur en de geometrische structuur van de parameters op de interactie tussen het membraan en het materiaal, noodzakelijk om experimenten uit te voeren naar de procesparameters om de optimale procesomstandigheden te bepalen.
–Dit artikel is gepubliceerd doorfabrikant van vacuümcoatingmachinesGuangdong Zhenhua
Geplaatst op: 05-01-2024