Kuimarisha Mipako ya Magnetron na Ugavi wa Nguvu wa Arc

Mipako ya sumaku ya sputtering inafanywa kwa kutokwa kwa mwanga, na wiani mdogo wa kutokwa sasa na wiani wa chini wa plasma katika chumba cha mipako. Hii inafanya teknolojia ya kunyunyiza kwa magnetron kuwa na hasara kama vile nguvu ya chini ya kuunganisha ya substrate ya filamu, kiwango cha chini cha ioni cha chuma, na kiwango cha chini cha utuaji. Katika mashine ya mipako ya magnetron sputtering, kifaa cha kutokwa kwa arc kinaongezwa, ambacho kinaweza kutumia mtiririko wa elektroni wa juu-wiani katika plasma ya arc inayotokana na kutokwa kwa arc ili kusafisha workpiece, Inaweza pia kushiriki katika mipako na utuaji msaidizi.

Ongeza chanzo cha nguvu cha kutokwa kwa arc kwenye mashine ya mipako ya magnetron, ambayo inaweza kuwa chanzo kidogo cha arc, chanzo cha safu ya mstatili ya arc, au chanzo cha arc ya cathode ya silinda. Mtiririko wa elektroni zenye msongamano wa juu unaozalishwa na chanzo cha arc ya cathode unaweza kutekeleza majukumu yafuatayo katika mchakato mzima wa mipako ya magnetron sputtering:
1. Safisha workpiece. Kabla ya kupaka, washa chanzo cha arc ya cathode, nk, ionize gesi na mtiririko wa elektroni ya arc, na usafishe sehemu ya kazi na nishati ya chini na ioni za argon za juu.
2. Chanzo cha arc na lengo la udhibiti wa magnetic ni coated pamoja. Wakati shabaha ya magnetron sputtering na kutokwa kwa mwanga inapoamilishwa kwa ajili ya mipako, chanzo cha arc cathode pia huwashwa, na vyanzo vyote viwili vya mipako hupakwa wakati huo huo. Wakati muundo wa nyenzo inayolengwa ya magnetron na nyenzo inayolengwa ya chanzo cha arc ni tofauti, tabaka nyingi za filamu zinaweza kupambwa, na safu ya filamu iliyowekwa na chanzo cha arc ya cathode ni kiunganishi kwenye filamu ya safu nyingi.
3. Chanzo cha arc ya cathode hutoa mtiririko wa elektroni ya msongamano wa juu wakati wa kushiriki katika mipako, kuongeza uwezekano wa kugongana na atomi za safu ya filamu ya chuma iliyopigwa na gesi za majibu, kuboresha kiwango cha uwekaji, kiwango cha ioni ya chuma, na jukumu la kusaidia utuaji.

Chanzo cha arc ya cathode kilichosanidiwa katika mashine ya mipako ya magnetron sputtering huunganisha chanzo cha kusafisha, chanzo cha mipako, na chanzo cha ionization, kikicheza jukumu chanya katika kuboresha ubora wa mipako ya magnetron sputtering kwa kutumia mtiririko wa elektroni ya arc katika plasma ya arc.