1. Тхепремаз вакуумским испаравањемПроцес укључује испаравање филмских материјала, транспорт атома паре у високом вакууму и процес нуклеације и раста атома паре на површини радног предмета.
2. Степен вакуумског наношења премаза вакуумским испаравањем је висок, генерално 10-510-3Па. Слободан пут молекула гаса је реда величине 1~10m, што је много веће од растојања од извора испаравања до радног предмета, ово растојање се назива растојање испаравања, генерално 300~800mm. Честице премаза се тешко сударају са молекулима гаса и атомима паре и доспевају до радног предмета.
3. Слој премаза вакуумским испаравањем није намотан, а атоми паре иду директно на радни предмет под високим вакуумом. Само страна окренута ка извору испаравања на радном предмету може да добије слој филма, док страна и задња страна радног предмета тешко могу да добију слој филма, а слој филма има лошу превлаку.
4. Енергија честица слоја премаза вакуумским испаравањем је ниска, а енергија која доспева до радног предмета је топлотна енергија коју преноси испаравање. Пошто радни предмет није под притиском током вакуумског испаравања, атоми метала се ослањају само на топлоту испаравања током испаравања, температура испаравања је 1000~2000 °C, а пренета енергија је еквивалентна 0,1~0,2eV, тако да је енергија честица филма ниска, сила везивања између слоја филма и матрице је мала и тешко је формирати сложени премаз.
5. Слој премаза вакуумским испаравањем има фину структуру. Процес вакуумског испаравања се формира под високим вакуумом, а честице филма у пари су у основи атомског размера, формирајући фино језгро на површини радног предмета.
Време објаве: 14. јун 2023.