Fa'atekonolosi fa'apipi'i fa'aola le Ion beam

O le mea moni, o le Ion beam assisted deposition technology o se tekinolosi tu'ufa'atasi. O se metotia fa'apipi'i i luga ole fa'aogaina o le ion e tu'ufa'atasia ai le fa'apipi'iina o le ion ma le fa'aogaina o ata fa'atekonolosi ausa fa'aletino, ma se ituaiga fou o le fa'aogaina o luga o le ion beam. I le faaopoopo atu i le lelei o le teuina o le ausa faaletino, o lenei metotia e mafai ona faʻaauau pea ona tupu soʻo se ata mafiafia i lalo o tulaga faʻatonutonu sili atu, faʻaleleia atili le tioata ma le faʻatulagaina o le ata tifaga, faʻateleina le malosi faʻapipiʻi o le ata tifaga / substrate, faʻaleleia le mafiafia o le ata tifaga, ma faʻapipiʻi ata faʻapipiʻi faʻatasi ma fua stoichiometric lelei i le vevela o le potu, e le mafai ona avea ma ituaiga fou. Ion beam assisted deposition e le gata ina taofia le lelei o le ion implantation process, ae mafai foi ona ufiufi le substrate i se ata e matua ese lava mai le substrate.
I ituaiga uma o le faʻaogaina o le ausa faʻaletino ma le faʻaogaina o le ausa vailaʻau, e mafai ona faʻaopoopoina se seti o fana faʻapipiʻi fesoasoani e fausia ai se faiga IBAD, ma e lua faiga lautele IBAD e pei ona taua i lalo, e pei ona faʻaalia i le Pic:

E pei ona fa'aalia i le Pic (a), e fa'aaogaina se puna fa'asao fa'aeletonika e fa'amumuina ai le ata tifaga ma le fa'alava o le ion e fa'aulu mai le fana, ma iloa ai le fa'aputuina o le ion beam. O le lelei o le malosi ma le faʻatonuga o le ion e mafai ona fetuʻunaʻi, ae naʻo se tasi pe faʻatapulaʻaina uʻamea, poʻo le faʻapipiʻi e mafai ona faʻaaogaina e fai ma puna o le faʻasao, ma o le mamafa o le ausa taʻitasi o le mea faʻapipiʻi ma le faʻapipiʻi e eseese, lea e faigata ai ona maua le ata tifaga o le uluai faʻamavae puna.
O le ata (b) o loʻo faʻaalia ai le faʻapipiʻiina o le paʻu o le ion beam, lea e taʻua foi o le faʻapipiʻiina o le paʻu lua, lea o loʻo faʻaogaina ai le mea e faʻapipiʻiina ai mea faʻapipiʻi ion beam, o mea faʻapipiʻi e faʻaaogaina e fai ma puna. A'o tu'uina i luga o le mea'ai, o le fa'apipi'iina o le ion beam sputtering fesoasoani e maua e ala i le fa'avevelaina ma se isi puna ion. O le lelei o lenei metotia o le sputtered particles lava ia ei ai se malosi malosi, o lea e sili atu le pipii i le substrate; so o se vaega o le sini e mafai ona sputtered coating, ae e mafai foi ona tali sputtering i le ata tifaga, faigofie e fetuutuunai le tuufaatasiga o le ata tifaga, ae o lona lelei deposition e maualalo, o le sini e taugata ma o loo i ai faafitauli e pei o sputtering filifilia.