O le ufiufiina o le vacuum e aofia ai le teuina o le ausa i le vacuum, le ufiufiina o le sputtering ma le ufiufiina o le ion, o nei mea uma e faʻaaogaina e teu ai le tele o ata uʻamea ma ata e le o ni uʻamea i luga o vaega palasitika e ala i le faʻamamāina poʻo le sputtering i lalo o tulaga vacuum, lea e mafai ona maua ai se ufiufiina o luga e matua manifinifi lava ma le lelei tele o le pipii vave, ae o le tau e maualuga foi, ma o ituaiga uʻamea e mafai ona faʻagaoioia e itiiti, ma e masani ona faʻaaogaina mo le ufiufiina o oloa e maualuga atu le tulaga.
O le fa'aputuga ausa i le vacuum o se metotia lea e fa'avevela ai le u'amea i lalo o le vacuum maualuga, e fa'amaluluina ai, fa'amamago, ma fausia ai se ata manifinifi o le u'amea i luga o le fogāeleele o le fa'ata'ita'iga pe a uma ona fa'amālūlūina, ma le mafiafia e 0.8-1.2 um. E fa'atumuina ai vaega laiti e foliga fa'aputu ma fa'aputu i luga o le fogāeleele o le oloa ua faia ina ia maua ai se fogāeleele e pei o se fa'ata. A faia le fa'aputuga ausa i le vacuum e maua ai se fa'ata e atagia mai ai le ata pe fa'apuna ai se u'amea e itiiti le pipii, e tatau ona ufiufi le fogāeleele pito i lalo.
O le sputtering e masani ona faasino i le magnetron sputtering, o se metotia sputtering maualalo-vevela e vave tele. O le faiga e manaʻomia ai se vacuum e tusa ma le 1 × 10-3Torr, o lona uiga o le 1.3 × 10-3Pa vacuum state e faʻatumuina i le inert gas argon (Ar), ma i le va o le substrate palasitika (anode) ma le uʻamea faʻamoemoe (cathode) faʻatasi ai ma le maualuga-voltage direct current, ona o le electron excitation o le inert gas na gaosia e le glow discharge, e maua ai le plasma, o le plasma o le a faʻapapā ese ai atoms o le uʻamea faʻamoemoe ma faʻapipiʻi i luga o le substrate palasitika. O le tele o ufi uʻamea lautele e faʻaaogaina le DC sputtering, ae o mea seramika e le o faʻaaogaina le RF AC sputtering.
O le ufiufi ion o se metotia lea e faʻaaogaina ai le faʻasaʻolotoina o le kesi e faʻaionize ai le kesi poʻo le mea ua mimiti i lalo o tulaga o le vacuum, ma o le mea ua mimiti poʻo ana mea e tali atu ai e faʻapipiʻi i luga o le substrate e ala i le faʻapaʻuina o ion kesi poʻo ion o le mea ua mimiti. E aofia ai le ufiufi o le ion magnetron sputtering, ufiufi o le ion reactive, ufiufi o le ion hollow cathode discharge (metotia o le faʻaputuina o le vapor cathode hollow), ma le ufiufi o le ion multi-arc (ufiufi o le ion cathode arc).
O le ufiufi faifai pea o le magnetron itu lua fa'atulagaina i le laina
E lautele lona fa'aoga, e mafai ona fa'aaogaina mo oloa eletise e pei o le puipui puipui EMI o le atigi komepiuta feavea'i, oloa mafolafola, ma e o'o lava i oloa ipu moli uma i totonu o se maualuga fa'atulagaina e mafai ona gaosia. E tele le gafatia e uta ai, e mafai ona fa'apipi'i fa'atasi ma le fa'apipi'iina fa'asolosolo o ipu moli fa'a-conical mo le ufiufiina o itu e lua, lea e mafai ona tele le gafatia e uta ai. E mautu le tulaga lelei, e tutusa lelei le vaega o ata tifaga mai le vaega i le vaega. E maualuga le tikeri o le otometi ma e maualalo le tau o le galuega.
–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua
Taimi na lafoina ai: Ianuari-23-2025
