Вакуумное напыление включает в себя в основном вакуумное осаждение из паровой фазы, магнетронное напыление и ионное напыление. Все эти методы используются для нанесения различных металлических и неметаллических пленок на поверхность пластиковых деталей путем дистилляции или магнетронного напыления в вакуумных условиях. Они позволяют получить очень тонкое поверхностное покрытие с выдающимся преимуществом быстрой адгезии, но при этом стоят дороже, а количество обрабатываемых металлов ограничено. Вакуумное напыление обычно используется для функциональных покрытий изделий более высокого качества.
Вакуумное осаждение из паровой фазы — это метод нагрева металла в условиях высокого вакуума, в результате чего он плавится, испаряется и после охлаждения на поверхности образца образуется тонкая металлическая пленка толщиной 0,8–1,2 мкм. Она заполняет небольшие вогнутые и выпуклые участки на поверхности полученного изделия, обеспечивая зеркальную поверхность. При проведении вакуумного осаждения из паровой фазы для получения отражающего зеркального эффекта или для вакуумного испарения стали с низкой адгезией, нижняя поверхность должна быть покрыта.
Обычно под магнетронным распылением подразумевается высокоскоростной низкотемпературный метод распыления. Для этого процесса требуется вакуум около 1×10⁻³ Торр, то есть 1,3×10⁻³ Па, заполненный инертным газом аргоном (Ar). Между пластиковой подложкой (анодом) и металлической мишенью (катодом) подается высоковольтный постоянный ток. В результате возбуждения электронов инертным газом, генерируемым тлеющим разрядом, образуется плазма, которая выбивает атомы металлической мишени и осаждает их на пластиковой подложке. В большинстве случаев для нанесения металлических покрытий используется магнетронное распыление постоянного тока, тогда как для непроводящих керамических материалов применяется высокочастотное распыление переменного тока.
Ионное нанесение покрытий — это метод, при котором газовый разряд используется для частичной ионизации газа или испаряемого вещества в вакуумных условиях, а испаряемое вещество или его реагенты осаждаются на подложку путем бомбардировки ионами газа или ионами испаряемого вещества. К таким методам относятся магнетронное распыление ионных покрытий, реактивное ионное нанесение покрытий, ионное нанесение покрытий с использованием полого катода (метод осаждения из паровой фазы с полым катодом) и многодуговое ионное нанесение покрытий (ионное нанесение с катодной дугой).
Вертикальное двухстороннее магнетронное распыление для непрерывного нанесения покрытий в линию
Широкая область применения: может использоваться для электронных изделий, таких как экранирующие слои для корпусов ноутбуков, плоские изделия и даже все изделия с плафонами определенной высоты. Большая грузоподъемность, компактное и шахматное зажимание конических плафонов для двухстороннего нанесения покрытия, что позволяет увеличить грузоподъемность. Стабильное качество, хорошая однородность пленочного слоя от партии к партии. Высокая степень автоматизации и низкие эксплуатационные расходы.
– Данная статья опубликованапроизводитель вакуумных напыляемых машинГуандун Чжэньхуа
Дата публикации: 23 января 2025 г.