Faʻaleleia le faʻapipiʻiina o le Magnetron Sputtering Coating ma le Arc Discharge Power Supply

Magnetron sputtering coating o loʻo faʻatinoina i le susulu malamalama, faʻatasi ai ma le maualalo o le tuʻuina atu o le taimi nei ma le maualalo o le plasma density i totonu o le potu faʻapipiʻi. O le mea lea e maua ai le le lelei o le magnetron sputtering technology e pei o le maualalo o le malosi o le fusifusia o substrate, maualalo le fua o le ionization uamea, ma le maualalo o le fa'aputuina. I totonu o le magnetron sputtering coating machine, ua faʻapipiʻiina se masini faʻapipiʻi arc, lea e mafai ona faʻaogaina ai le eletise eletise maualuga i le plasma arc na gaosia e le arc discharge e faʻamama ai le mea faigaluega, E mafai foi ona auai i le ufiufi ma le faʻapipiʻiina o fesoasoani.

Fa'aopoopo i ai se fa'apogai fa'avevela arc i totonu o le masini fa'apipi'i fa'amaneta, lea e mafai ona avea ma se fa'apogai arc la'ititi, fa'apogai fa'atafa'ifa'i fa'apogai, po'o se puna arc cathode cylindrical. O le maualuga-density electron tafe e gaosia e le cathode arc puna e mafai ona faia matafaioi nei i le faagasologa atoa o le magnetron sputtering coating:
1. Fa'amama le mea faigaluega. Aʻo leʻi faʻapipiʻiina, faʻapipiʻi le puna o le cathode arc, ma isi, faʻafefe le kesi i le arc electron flow, ma faʻamama le mea faigaluega i le maualalo o le malosi ma le maualuga o le argon ions.
2. O lo'o fa'apipi'i fa'atasi le puna arc ma le fa'atonu fa'amaneta. Pe a faʻagaoioia le faʻaogaina o le magnetron sputtering faʻatasi ma le susulu o le susulu mo le ufiufi, o loʻo faʻagaoioia foi le puna arc cathode, ma o faʻapogai uma e lua e faʻapipiʻiina i le taimi e tasi. Pe a eseese le tuufaatasiga o le magnetron sputtering mea sini ma le arc puna autu autu, e mafai ona plated le tele o laulau o ata tifaga, ma o le vaega ata tifaga teuina e le puna arc cathode o se interlayer i le tele-layer ata.
3. O le puna arc cathode e maua ai le tafe eletise maualuga pe a auai i le faʻapipiʻiina, faʻateleina le avanoa o le faʻalavelave faʻatasi ma le sputtered atoms layer film uʻamea ma kasa tali, faʻaleleia le fua faatatau deposition, fua faatatau ionization uʻamea, ma taʻalo se sao i le fesoasoani deposition.

O le cathode arc puna configured i le magnetron sputtering coating masini tuufaatasia se puna faamama, puna puna, ma puna ionization, taʻalo se sao lelei i le faʻaleleia atili o le lelei o le faʻaogaina o le faʻaogaina o le eletise eletise i le arc plasma.