Magnetrónové naprašovanie sa vykonáva v žiarovom výboji s nízkou hustotou výbojového prúdu a nízkou hustotou plazmy v nanášacej komore. To spôsobuje, že technológia magnetrónového naprašovania má nevýhody, ako je nízka pevnosť spoja filmu so substrátom, nízka rýchlosť ionizácie kovu a nízka rýchlosť nanášania. V magnetrónovom naprašovacom stroji je pridané zariadenie na oblúkový výboj, ktoré dokáže využiť tok elektrónov s vysokou hustotou v oblúkovej plazme generovanej oblúkovým výbojom na čistenie obrobku a môže sa tiež podieľať na nanášaní a pomocnom nanášaní.
Do magnetrónového naprašovacieho zariadenia pridajte zdroj oblúkového výboja, ktorým môže byť malý oblúkový zdroj, obdĺžnikový rovinný oblúkový zdroj alebo valcový katódový oblúkový zdroj. Tok elektrónov s vysokou hustotou generovaný katódovým oblúkovým zdrojom môže v celom procese magnetrónového naprašovania zohrávať nasledujúce úlohy:
1. Vyčistite obrobok. Pred nanášaním povlaku zapnite zdroj katódového oblúka atď., ionizujte plyn prúdom elektrónov oblúka a vyčistite obrobok nízkoenergetickými iónmi argónu s vysokou hustotou.
2. Zdroj oblúka a magnetický riadiaci terč sú potiahnuté spoločne. Keď sa aktivuje magnetrónový naprašovací terč s tlejúcim výbojom na nanášanie povlaku, aktivuje sa aj katódový oblúkový zdroj a oba zdroje povlaku sú súčasne potiahnuté. Ak je zloženie materiálu magnetrónového naprašovacieho terča a materiálu terča zdroja oblúka odlišné, je možné naniesť viacero vrstiev filmu a vrstva filmu nanesená katódovým oblúkovým zdrojom tvorí medzivrstvu vo viacvrstvovom filme.
3. Zdroj katódového oblúka zabezpečuje tok elektrónov s vysokou hustotou pri účasti na nanášaní povlaku, čím zvyšuje pravdepodobnosť kolízie s atómami naprašovanej kovovej vrstvy a reakčnými plynmi, zlepšuje rýchlosť nanášania, rýchlosť ionizácie kovu a zohráva úlohu pri napomáhaní nanášania.
Zdroj katódového oblúka konfigurovaný v magnetrónovom naprašovacom stroji integruje zdroj čistenia, zdroj povlaku a zdroj ionizácie, čo zohráva pozitívnu úlohu pri zlepšovaní kvality magnetrónového naprašovania využitím toku elektrónov oblúka v oblúkovej plazme.
Čas uverejnenia: 21. júna 2023