1. Orevestimento por evaporação a vácuoO processo inclui a evaporação de materiais de filme, o transporte de átomos de vapor em alto vácuo e o processo de nucleação e crescimento de átomos de vapor na superfície da peça de trabalho.
2. O grau de vácuo de deposição do revestimento de evaporação a vácuo é alto, geralmente 10-510-3Pa. O caminho livre das moléculas de gás é da ordem de grandeza de 1 a 10 m, que é muito maior do que a distância da fonte de evaporação até a peça de trabalho. Essa distância é chamada de distância de evaporação, geralmente de 300 a 800 mm. As partículas de revestimento dificilmente colidem com moléculas de gás e átomos de vapor e atingem a peça de trabalho.
3. A camada de revestimento por evaporação a vácuo não é galvanizada, e os átomos de vapor são direcionados diretamente para a peça de trabalho sob alto vácuo. Somente o lado voltado para a fonte de evaporação na peça de trabalho consegue obter a camada de filme, enquanto as laterais e a parte traseira da peça dificilmente conseguem obter a camada de filme, e a camada de filme tem galvanização deficiente.
4. A energia das partículas da camada de revestimento por evaporação a vácuo é baixa, e a energia que chega à peça de trabalho é a energia térmica transportada pela evaporação. Como a peça de trabalho não é polarizada durante o revestimento por evaporação a vácuo, os átomos metálicos dependem apenas do calor de vaporização durante a evaporação. A temperatura de evaporação é de 1000 a 2000 °C e a energia transportada é equivalente a 0,1 a 0,2 eV, portanto, a energia das partículas do filme é baixa, a força de ligação entre a camada do filme e a matriz é pequena e a formação de um revestimento composto é difícil.
5. A camada de revestimento por evaporação a vácuo possui uma estrutura fina. O processo de revestimento por evaporação a vácuo é formado sob alto vácuo, e as partículas do filme no vapor são basicamente em escala atômica, formando um núcleo fino na superfície da peça de trabalho.
Horário da publicação: 14/06/2023