1. Tenpowłoka parowania próżniowegoProces obejmuje parowanie materiałów foliowych, transport atomów pary w wysokiej próżni oraz proces krystalizacji i wzrostu atomów pary na powierzchni przedmiotu obrabianego.
2. Stopień próżniowego osadzania powłoki parowania próżniowego jest wysoki i wynosi zazwyczaj 10–510-3Pa. Swobodna droga cząsteczek gazu wynosi 1~10m rzędu wielkości, co jest znacznie większe niż odległość od źródła parowania do przedmiotu obrabianego, ta odległość jest nazywana odległością parowania, zwykle 300~800mm. Cząsteczki powłoki prawie nie zderzają się z cząsteczkami gazu i atomami pary i docierają do przedmiotu obrabianego.
3. Warstwa powłoki parowania próżniowego nie jest nawijana, a atomy pary trafiają bezpośrednio do przedmiotu obrabianego pod wysoką próżnią. Tylko strona zwrócona do źródła parowania na przedmiocie obrabianym może uzyskać warstwę folii, a strona i tył przedmiotu obrabianego mogą z trudem uzyskać warstwę folii, a warstwa folii ma słabe powlekanie.
4. Energia cząstek warstwy powłoki parowania próżniowego jest niska, a energia docierająca do przedmiotu obrabianego to energia cieplna przenoszona przez parowanie. Ponieważ przedmiot obrabiany nie jest spolaryzowany podczas powlekania parowania próżniowego, atomy metalu polegają tylko na cieple parowania podczas parowania, temperatura parowania wynosi 1000~2000 °C, a przenoszona energia jest równoważna 0,1~0,2 eV, więc energia cząstek filmu jest niska, siła wiązania między warstwą filmu a matrycą jest mała i trudno jest utworzyć powłokę złożoną.
5. Warstwa powłoki parowania próżniowego ma drobną strukturę. Proces galwanizacji parowania próżniowego jest formowany w warunkach wysokiej próżni, a cząsteczki filmu w parze są zasadniczo w skali atomowej, tworząc drobny rdzeń na powierzchni przedmiotu obrabianego.
Czas publikacji: 14-06-2023