ग्वांगडोंग झेनहुआ ​​टेक्नॉलॉजी कंपनी लिमिटेड मध्ये आपले स्वागत आहे.
सिंगल_बॅनर

आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन तंत्रज्ञान

लेख स्रोत:झेनहुआ ​​व्हॅक्यूम
वाचा:१०
प्रकाशित:२२-११-०८

खरं तर, आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन टेक्नॉलॉजी ही एक कंपोझिट टेक्नॉलॉजी आहे. ही एक कंपोझिट सरफेस आयन ट्रीटमेंट टेक्नॉलॉजी आहे जी आयन इम्प्लांटेशन आणि फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन फिल्म टेक्नॉलॉजी आणि आयन बीम सरफेस ऑप्टिमायझेशन टेक्नॉलॉजी एकत्र करते. फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशनच्या फायद्यांव्यतिरिक्त, हे तंत्र अधिक कठोर नियंत्रण परिस्थितीत कोणत्याही जाडीच्या फिल्मला सतत वाढवू शकते, फिल्म लेयरची स्फटिकता आणि ओरिएंटेशन अधिक लक्षणीयरीत्या सुधारू शकते, फिल्म लेयर/सब्सट्रेटची आसंजन शक्ती वाढवू शकते, फिल्म लेयरची घनता सुधारू शकते आणि खोलीच्या जवळच्या तापमानावर आदर्श स्टोइचियोमेट्रिक गुणोत्तरांसह कंपाऊंड फिल्म्सचे संश्लेषण करू शकते, ज्यामध्ये खोलीच्या तापमानावर आणि दाबावर मिळू शकत नाहीत अशा नवीन प्रकारच्या फिल्म्सचा समावेश आहे. आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन केवळ आयन इम्प्लांटेशन प्रक्रियेचे फायदे टिकवून ठेवत नाही तर सब्सट्रेटला सब्सट्रेटपेक्षा पूर्णपणे वेगळ्या फिल्मने देखील कव्हर करू शकते.
सर्व प्रकारच्या भौतिक बाष्प निक्षेपण आणि रासायनिक बाष्प निक्षेपणात, IBAD प्रणाली तयार करण्यासाठी सहाय्यक बॉम्बार्डमेंट आयन गनचा संच जोडला जाऊ शकतो आणि चित्रात दाखवल्याप्रमाणे, खालीलप्रमाणे दोन सामान्य IBAD प्रक्रिया आहेत:
आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन तंत्रज्ञान
चित्र (अ) मध्ये दाखवल्याप्रमाणे, आयन गनमधून उत्सर्जित होणाऱ्या आयन बीमसह फिल्म लेयरचे विकिरण करण्यासाठी इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन स्रोत वापरला जातो, ज्यामुळे आयन बीम सहाय्यक निक्षेपण साध्य होते. याचा फायदा असा आहे की आयन बीमची ऊर्जा आणि दिशा समायोजित केली जाऊ शकते, परंतु बाष्पीभवन स्रोत म्हणून फक्त एक किंवा मर्यादित मिश्रधातू किंवा संयुग वापरले जाऊ शकते आणि मिश्रधातू घटक आणि संयुगाचा प्रत्येक बाष्प दाब वेगळा असतो, ज्यामुळे मूळ बाष्पीभवन स्रोत रचनेचा फिल्म लेयर मिळवणे कठीण होते.
चित्र (ब) आयन बीम स्पटरिंग-असिस्टेड डिपॉझिशन दर्शविते, ज्याला डबल आयन बीम स्पटरिंग डिपॉझिशन असेही म्हणतात, ज्यामध्ये आयन बीम स्पटरिंग कोटिंग मटेरियलपासून बनवलेले लक्ष्य, स्पटरिंग उत्पादने स्त्रोत म्हणून वापरली जातात. ते सब्सट्रेटवर जमा करताना, आयन बीम स्पटरिंग असिस्टेड डिपॉझिशन दुसऱ्या आयन स्रोतासह विकिरणाद्वारे साध्य केले जाते. या पद्धतीचा फायदा असा आहे की स्पटर केलेल्या कणांमध्ये स्वतःला एक विशिष्ट ऊर्जा असते, त्यामुळे सब्सट्रेटसह चांगले आसंजन असते; लक्ष्याच्या कोणत्याही घटकाला स्पटर केलेले कोटिंग केले जाऊ शकते, परंतु फिल्ममध्ये रिअॅक्शन स्पटरिंग देखील असू शकते, फिल्मची रचना समायोजित करणे सोपे आहे, परंतु त्याची डिपॉझिशन कार्यक्षमता कमी आहे, लक्ष्य महाग आहे आणि निवडक स्पटरिंग सारख्या समस्या आहेत.


पोस्ट वेळ: नोव्हेंबर-०८-२०२२