1. DenVakuumverdampfungsbeschichtungDe Prozess ëmfaasst d'Verdampfung vu Filmmaterialien, den Transport vun Dampatome am Héichvakuum, an de Prozess vun der Keimbildung a vum Wuesstum vun Dampatome op der Uewerfläch vum Werkstéck.
2. Den Oflagerungsvakuumgrad vun der Vakuumverdampfungsbeschichtung ass héich, allgemeng 10-510-3Pa. De fräie Wee vun de Gasmoleküle ass eng Gréisstenuerdnung vun 1~10m, wat vill méi grouss ass wéi d'Distanz vun der Verdampfungsquell zum Werkstéck. Dës Distanz gëtt Verdampfungsdistanz genannt, allgemeng 300~800mm. D'Beschichtungspartikelen kollidéiere kaum mat Gasmoleküle an Dampatome a erreechen d'Werkstéck.
3. D'Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht ass net gewéckelt, an d'Dampatome ginn direkt op d'Wierkstéck ënner héijem Vakuum. Nëmmen d'Säit, déi op d'Verdampfungsquell vum Werkstéck weist, kann d'Folieschicht kréien, an d'Säit an d'Récksäit vum Werkstéck kënnen d'Folieschicht kaum kréien, an d'Folieschicht ass schlecht veraarbecht.
4. D'Energie vun de Partikelen vun der Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht ass niddreg, an d'Energie, déi d'Wierkstéck erreecht, ass d'Hëtztenergie, déi duerch d'Verdampfung gedroe gëtt. Well d'Wierkstéck während der Vakuumverdampfungsbeschichtung net virgespannt gëtt, vertrauen d'Metallatome nëmmen op d'Verdampfungshëtzt während der Verdampfung, d'Verdampfungstemperatur ass 1000~2000 °C, an d'gedroe Energie ass gläichwäerteg mat 0,1~0,2 eV, sou datt d'Energie vun de Filmpartikelen niddreg ass, d'Bindungskraaft tëscht der Filmschicht an der Matrix kleng ass, an et schwéier ass, eng Verbindungsbeschichtung ze bilden.
5. D'Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht huet eng fein Struktur. De Vakuumverdampfungsplatéierungsprozess gëtt ënner héijem Vakuum geformt, an d'Filmpartikelen am Damp sinn am Fong op atomarer Skala a bilden e feine Kär op der Uewerfläch vum Werkstéck.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 14. Juni 2023