ការស្រោប Magnetron sputtering ត្រូវបានអនុវត្តនៅក្នុងការបញ្ចេញពន្លឺ ជាមួយនឹងដង់ស៊ីតេចរន្តបញ្ចេញទាប និងដង់ស៊ីតេប្លាស្មាទាបនៅក្នុងបន្ទប់ថ្នាំកូត។ នេះធ្វើឱ្យបច្ចេកវិទ្យា magnetron sputtering មានគុណវិបត្តិដូចជាកម្លាំងភ្ជាប់ស្រទាប់ខាងក្រោមនៃខ្សែភាពយន្តទាប អត្រាអ៊ីយ៉ូដលោហៈទាប និងអត្រានៃការដាក់ប្រាក់ទាប។ នៅក្នុងម៉ាស៊ីនថ្នាំកូត magnetron sputtering ឧបករណ៍បញ្ចេញធ្នូមួយត្រូវបានបន្ថែមដែលអាចប្រើលំហូរអេឡិចត្រុងដែលមានដង់ស៊ីតេខ្ពស់នៅក្នុងប្លាស្មាធ្នូដែលបង្កើតឡើងដោយការបញ្ចេញធ្នូដើម្បីសម្អាត workpiece ហើយវាក៏អាចចូលរួមក្នុងការស្រោប និងស្រទាប់ជំនួយផងដែរ។
បន្ថែមប្រភពថាមពលបញ្ចេញធ្នូនៅក្នុងម៉ាស៊ីនថ្នាំកូត magnetron sputtering ដែលអាចជាប្រភពធ្នូតូច ប្រភពធ្នូរាងចតុកោណ ឬប្រភពធ្នូ cathode រាងស៊ីឡាំង។ លំហូរអេឡិចត្រុងដង់ស៊ីតេខ្ពស់ដែលបង្កើតឡើងដោយប្រភពធ្នូ cathode អាចដើរតួនាទីដូចខាងក្រោមនៅក្នុងដំណើរការទាំងមូលនៃថ្នាំកូត magnetron sputtering:
1. សម្អាត workpiece ។ មុនពេលស្រោប សូមបើកប្រភពធ្នូ cathode ជាដើម ធ្វើអ៊ីយ៉ុងឧស្ម័នជាមួយនឹងលំហូរអេឡិចត្រុងធ្នូ ហើយសម្អាតកន្លែងធ្វើការដោយប្រើថាមពលទាប និងអ៊ីយ៉ុង argon ដង់ស៊ីតេខ្ពស់។
2. ប្រភពធ្នូ និងគោលដៅគ្រប់គ្រងម៉ាញេទិកត្រូវបានស្រោបជាមួយគ្នា។ នៅពេលដែលគោលដៅនៃការបាញ់មេដែកជាមួយការបញ្ចេញពន្លឺត្រូវបានធ្វើឱ្យសកម្មសម្រាប់ថ្នាំកូត ប្រភពធ្នូ cathode ក៏ត្រូវបានធ្វើឱ្យសកម្មផងដែរ ហើយប្រភពថ្នាំកូតទាំងពីរត្រូវបានស្រោបក្នុងពេលដំណាលគ្នា។ នៅពេលដែលសមាសធាតុនៃវត្ថុធាតុគោលដៅ magnetron sputtering និងសម្ភារៈគោលដៅប្រភពធ្នូគឺខុសគ្នា ស្រទាប់ជាច្រើននៃខ្សែភាពយន្តអាចត្រូវបាន plated ហើយស្រទាប់ខ្សែភាពយន្តដែលដាក់ដោយប្រភពធ្នូ cathode គឺជា interlayer នៅក្នុងខ្សែភាពយន្តពហុស្រទាប់។
3. ប្រភពធ្នូ cathode ផ្តល់នូវលំហូរអេឡិចត្រុងដែលមានដង់ស៊ីតេខ្ពស់នៅពេលចូលរួមក្នុងការស្រោប បង្កើនប្រូបាប៊ីលីតេនៃការប៉ះទង្គិចជាមួយអាតូមស្រទាប់ហ្វីលលោហធាតុ និងឧស្ម័នប្រតិកម្ម ធ្វើអោយប្រសើរឡើងនូវអត្រានៃការដាក់ប្រាក់ អត្រាអ៊ីយ៉ូដនៃលោហធាតុ និងដើរតួក្នុងការជួយដល់ការរលាយ។
ប្រភពធ្នូ cathode ដែលបានកំណត់រចនាសម្ព័ន្ធនៅក្នុងម៉ាស៊ីនថ្នាំកូត magnetron sputtering រួមបញ្ចូលប្រភពសម្អាត ប្រភពថ្នាំកូត និងប្រភពអ៊ីយ៉ូដ ដែលដើរតួជាវិជ្ជមានក្នុងការកែលម្អគុណភាពនៃថ្នាំកូត magnetron sputtering ដោយប្រើប្រាស់លំហូរអេឡិចត្រុងធ្នូនៅក្នុងប្លាស្មាធ្នូ។
ពេលវេលាផ្សាយ៖ ថ្ងៃទី ២១ មិថុនា ឆ្នាំ ២០២៣