1. Urivestimentu di evaporazione à vuotoU prucessu include l'evaporazione di i materiali di u film, u trasportu di l'atomi di vapore in altu vacuum, è u prucessu di nucleazione è crescita di l'atomi di vapore nantu à a superficia di a pezza.
2. U gradu di deposizione di u vacuum di u rivestimentu di evaporazione di u vacuum hè altu, generalmente 10-510-3Pa. U percorsu liberu di e molecule di gas hè di 1 ~ 10 m d'ordine di magnitudine, chì hè assai più grande di a distanza da a fonte d'evaporazione à a pezza, sta distanza hè chjamata distanza d'evaporazione, generalmente 300 ~ 800 mm. E particelle di rivestimentu ùn si scontranu guasi micca cù e molecule di gas è l'atomi di vapore è ghjunghjenu à a pezza.
3. U stratu di rivestimentu per evaporazione à vuoto ùn hè micca placcatu cù avvolgimenti, è l'atomi di vapore vanu direttamente à a pezza sottu à un altu vuoto. Solu u latu chì dà nantu à a fonte d'evaporazione nantu à a pezza pò ottene u stratu di film, è u latu è u spinu di a pezza ponu appena ottene u stratu di film, è u stratu di film hà una placcatura scarsa.
4. L'energia di e particelle di u stratu di rivestimentu per evaporazione à vuoto hè bassa, è l'energia chì ghjunghje à a pezza hè l'energia termica purtata da l'evaporazione. Siccomu a pezza ùn hè micca polarizzata durante u rivestimentu per evaporazione à vuoto, l'atomi di metallu si basanu solu nantu à u calore di vaporizazione durante l'evaporazione, a temperatura di evaporazione hè 1000 ~ 2000 °C, è l'energia purtata hè equivalente à 0,1 ~ 0,2 eV, dunque l'energia di e particelle di u film hè bassa, a forza di ligame trà u stratu di u film è a matrice hè chjuca, è hè difficiule di furmà un rivestimentu cumpostu.
5. U stratu di rivestimentu per evaporazione à vuoto hà una struttura fina. U prucessu di placcatura per evaporazione à vuoto hè furmatu sottu altu vuoto, è e particelle di film in u vapore sò basicamente à scala atomica, furmendu un core finu nantu à a superficia di a pezza.
Data di publicazione: 14 di ghjugnu 2023