El recobriment per pulverització catòdica magnetrònica es duu a terme en descàrrega luminescent, amb baixa densitat de corrent de descàrrega i baixa densitat de plasma a la cambra de recobriment. Això fa que la tecnologia de pulverització catòdica magnetrònica tingui desavantatges com ara una baixa força d'unió del substrat de la pel·lícula, una baixa taxa d'ionització metàl·lica i una baixa taxa de deposició. A la màquina de recobriment per pulverització catòdica magnetrònica, s'afegeix un dispositiu de descàrrega d'arc, que pot utilitzar el flux d'electrons d'alta densitat al plasma d'arc generat per la descàrrega d'arc per netejar la peça, i també pot participar en el recobriment i la deposició auxiliar.
Afegiu una font d'alimentació de descàrrega d'arc a la màquina de recobriment per pulverització catòdica, que pot ser una font d'arc petita, una font d'arc planar rectangular o una font d'arc de càtode cilíndrica. El flux d'electrons d'alta densitat generat per la font d'arc de càtode pot tenir els següents papers en tot el procés de recobriment per pulverització catòdica:
1. Netegeu la peça. Abans del recobriment, engegueu la font d'arc del càtode, etc., ionitzeu el gas amb flux d'electrons d'arc i netegeu la peça amb ions d'argó de baixa energia i alta densitat.
2. La font d'arc i l'objectiu de control magnètic es recobreixen junts. Quan l'objectiu de pulverització catòdica amb descàrrega luminescent s'activa per al recobriment, la font d'arc del càtode també s'activa i ambdues fonts de recobriment es recobreixen simultàniament. Quan la composició del material de l'objectiu de pulverització catòdica i el material de l'objectiu de la font d'arc és diferent, es poden recobrir diverses capes de pel·lícula, i la capa de pel·lícula dipositada per la font d'arc del càtode és una capa intermèdia a la pel·lícula multicapa.
3. La font d'arc catòdic proporciona un flux d'electrons d'alta densitat quan participa en el recobriment, augmentant la probabilitat de col·lisió amb els àtoms de la capa de pel·lícula metàl·lica polvoritzada i els gasos de reacció, millorant la velocitat de deposició, la velocitat d'ionització del metall i jugant un paper en l'ajuda a la deposició.
La font d'arc catòdic configurada a la màquina de recobriment per pulverització catòdica integra una font de neteja, una font de recobriment i una font d'ionització, i juga un paper positiu en la millora de la qualitat del recobriment per pulverització catòdica mitjançant la utilització del flux d'electrons d'arc en el plasma d'arc.
Data de publicació: 21 de juny de 2023