Ion beam የታገዘ የማስቀመጫ ቴክኖሎጂ

በእርግጥ፣ Ion beam አጋዥ የማስቀመጫ ቴክኖሎጂ የተቀናጀ ቴክኖሎጂ ነው። ion implantation እና አካላዊ የእንፋሎት ማስቀመጫ ፊልም ቴክኖሎጂን እና አዲስ አይነት ion beam surface optimization ቴክኒክን በማጣመር የተዋሃደ የወለል ion ህክምና ቴክኒክ ነው። ከአካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ ጥቅሞች በተጨማሪ ይህ ዘዴ ማንኛውንም ውፍረት ያለው ፊልም በጠንካራ ቁጥጥር ሁኔታዎች ውስጥ ያለማቋረጥ ማደግ ይችላል ፣ የፊልም ሽፋኑን ክሪስታላይትነት እና አቅጣጫ በከፍተኛ ሁኔታ ያሻሽላል ፣ የፊልም ንጣፍ / ንጣፍ የማጣበቅ ጥንካሬን ይጨምራል ፣ የፊልም ንብርብር ውፍረትን ያሻሽላል ፣ እና በክፍል ሙቀት ውስጥ ሊገኙ የማይችሉትን የፊልም ዓይነቶችን እና በክፍል ሙቀት ውስጥ ሊገኙ የማይችሉ አዳዲስ ዓይነቶችን ጨምሮ። የ Ion beam የታገዘ ማስቀመጫ የ ion ተከላ ሂደት ጥቅሞችን ብቻ ሳይሆን ንጣፉን ከመሠረታዊው ሙሉ ለሙሉ በተለየ ፊልም ሊሸፍነው ይችላል.
በሁሉም ዓይነት የአካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ እና የኬሚካል ትነት ክምችት ውስጥ የIBAD ስርዓት ለመመስረት የረዳት ቦምብ ion ሽጉጦችን መጨመር ይቻላል እና በስዕሉ ላይ እንደሚታየው ሁለት አጠቃላይ የ IBAD ሂደቶች አሉ ።

በሥዕል (ሀ) ላይ እንደሚታየው የኤሌክትሮን ጨረር ትነት ምንጭ የፊልም ንብርብሩን ከአይዮን ሽጉጥ በሚወጣው ion ጨረር ለማንፀባረቅ ጥቅም ላይ ይውላል፣ በዚህም የ ion beam የታገዘ ክምችት ይገነዘባል። ጥቅሙ የ ion ጨረር ሃይል እና አቅጣጫ ማስተካከል ይቻላል ነገር ግን አንድ ወይም የተገደበ ቅይጥ ወይም ውህድ እንደ የትነት ምንጭ ሆኖ ሊያገለግል ይችላል እና የእያንዳንዱ የእንፋሎት ግፊት ቅይጥ አካል እና ውህድ የተለየ ነው ፣ ይህም የመጀመሪያውን የትነት ምንጭ ጥንቅር የፊልም ንብርብር ለማግኘት አስቸጋሪ ያደርገዋል።
ስእል (ለ) በ ion beam sputtering-assisted ማስቀመጫ ያሳያል, እሱም ድርብ ion beam sputtering deposition በመባልም ይታወቃል, በዚህ ውስጥ ዒላማው ከ ion beam sputtering coating ማቴሪያል የተሰራውን, የሚረጩት ምርቶች እንደ ምንጭ ይጠቀማሉ. በንጥረቱ ላይ በሚያስቀምጡበት ጊዜ, ion beam sputtering የታገዘ ማስቀመጫ ከሌላ ion ምንጭ ጋር በጨረር አማካኝነት ይደርሳል. የዚህ ዘዴ ጥቅም የሚረጩት ቅንጣቶች እራሳቸው የተወሰነ ኃይል አላቸው, ስለዚህ ከንጣፉ ጋር የተሻለ ማጣበቂያ አለ; የዒላማው ማንኛውም አካል ሽፋን ሊተፋ ይችላል ፣ ግን በፊልሙ ውስጥ ምላሽ መስጠት ፣ የፊልሙን ቅንጅት ማስተካከል ቀላል ነው ፣ ግን የማስቀመጥ ብቃቱ ዝቅተኛ ነው ፣ ዒላማው ውድ ነው እና እንደ መራጭ sputtering ያሉ ችግሮች አሉ።