Magnetron-sputterbedekking word uitgevoer in gloei-ontlading, met lae ontladingsstroomdigtheid en lae plasmadigtheid in die bedekkingskamer. Dit maak magnetron-sputtertegnologie nadele soos lae filmsubstraatbindingskrag, lae metaalionisasietempo en lae afsettingstempo. In die magnetron-sputterbedekkingsmasjien word 'n boogontladingstoestel bygevoeg, wat die hoëdigtheid-elektronvloei in die boogplasma wat deur boogontlading gegenereer word, kan gebruik om die werkstuk skoon te maak. Dit kan ook deelneem aan bedekking en hulpafsetting.
Voeg 'n boogontladingskragbron by die magnetron-sputterbedekkingsmasjien, wat 'n klein boogbron, 'n reghoekige planêre boogbron of 'n silindriese katodeboogbron kan wees. Die hoëdigtheid-elektronvloei wat deur die katodeboogbron gegenereer word, kan die volgende rolle speel in die hele proses van magnetron-sputterbedekking:
1. Maak die werkstuk skoon. Skakel die katodeboogbron, ens. aan voor die bedekking, ioniseer die gas met boogelektronvloei, en maak die werkstuk skoon met lae-energie en hoë-digtheid argonione.
2. Die boogbron en magnetiese beheerteiken word saam bedek. Wanneer die magnetron-sputterteiken met gloeiontlading vir bedekking geaktiveer word, word die katodeboogbron ook geaktiveer, en beide bedekkingsbronne word gelyktydig bedek. Wanneer die samestelling van die magnetron-sputterteikenmateriaal en die boogbron-teikenmateriaal verskil, kan verskeie lae film geplateer word, en die filmlaag wat deur die katodeboogbron neergelê word, is 'n tussenlaag in die meerlaagfilm.
3. Die katodeboogbron verskaf hoëdigtheid-elektronvloei wanneer dit aan die bedekking deelneem, wat die waarskynlikheid van botsing met die gesputterde metaalfilmlaagatome en reaksiegasse verhoog, die afsettingstempo en metaalionisasietempo verbeter en 'n rol speel in die ondersteuning van afsetting.
Die katodeboogbron wat in die magnetron-sputterbedekkingsmasjien gekonfigureer is, integreer 'n skoonmaakbron, bedekkingsbron en ionisasiebron, wat 'n positiewe rol speel in die verbetering van die kwaliteit van die magnetron-sputterbedekking deur die boogelektronvloei in die boogplasma te gebruik.
Plasingstyd: 21 Junie 2023