Насправді технологія осадження за допомогою іонного променя є композитною технологією.Це композитна техніка поверхневої іонної обробки, яка поєднує в собі іонну імплантацію та технологію фізичного осадження плівки з парової фази, а також новий тип техніки оптимізації поверхні іонного променя.На додаток до переваг фізичного осадження з парової фази, ця методика може безперервно нарощувати плівку будь-якої товщини в більш суворих умовах контролю, значно покращувати кристалічність і орієнтацію шару плівки, підвищувати міцність адгезії шару плівки/підкладки, покращувати щільність шару плівки та синтезувати складні плівки з ідеальними стехіометричними співвідношеннями при температурі, близькій до кімнатної, включаючи нові типи плівок, які неможливо отримати при кімнатній температурі та тиску.Осадження за допомогою іонного променя не тільки зберігає переваги процесу іонної імплантації, але також може покривати підкладку плівкою, що повністю відрізняється від підкладки.
У всіх видах фізичного осадження з парової фази та хімічного осадження з парової фази можна додати набір допоміжних іонних гармат для бомбардування, щоб сформувати систему IBAD, і є два загальні процеси IBAD, як показано на малюнку:
Як показано на малюнку (a), джерело електронно-променевого випаровування використовується для опромінення шару плівки іонним променем, що випускається з іонної гармати, таким чином реалізуючи осадження за допомогою іонного променя.Перевага полягає в тому, що енергію і напрямок пучка іонів можна регулювати, але лише один або обмежений сплав або сполуку можна використовувати як джерело випаровування, а тиск пари кожного компонента сплаву та сполуки різний, що ускладнює для отримання плівкового шару вихідної композиції джерела випаровування.
На малюнку (b) показано осадження за допомогою іонно-променевого розпилення, яке також відоме як осадження подвійним іонно-променевим розпиленням, у якому мішень із матеріалу покриття іонно-променевого розпилення, а продукти розпилення використовуються як джерело.Під час осадження на підкладку осадження за допомогою іонно-променевого розпилення досягається шляхом опромінення іншим джерелом іонів.Перевага цього методу в тому, що самі напилені частинки мають певну енергію, тому відбувається краще зчеплення з підкладкою;будь-який компонент мішені може бути покритий напиленням, але також може бути реакційним напиленням у плівку, легко регулювати склад плівки, але його ефективність осадження низька, мішень дорога та існують такі проблеми, як вибіркове напилення.
Час публікації: 08 листопада 2022 р