(4) Hedef malzeme. Hedef malzeme, genel olarak püskürtme kaplamanın anahtarıdır, hedef malzeme gereksinimleri karşıladığı sürece ve film tabakasını elde etmek için işlem parametrelerinin sıkı bir şekilde kontrol edilmesi gerekebilir. Hedef malzemedeki safsızlıklar ve yüzey oksitleri ve diğer saf olmayan maddeler film kontaminasyonunun önemli bir kaynağıdır, bu nedenle yüksek saflıkta bir tabaka elde etmek için, yüksek saflıkta hedef malzeme kullanımına ek olarak, her püskürtmede hedef yüzeyini temizlemek, hedef yüzeyindeki oksit tabakasını çıkarmak için ön püskürtme için ilk hedef olmalıdır.
(5) Arkaplan vakumu. Arkaplan vakumunun seviyesi doğrudan sistemdeki artık gaz miktarını yansıtır ve artık gaz da film tabakasının kirlenmesinin önemli bir kaynağıdır, bu nedenle arkaplan vakumu mümkün olduğunca iyileştirilmelidir. Kirliliğin bir diğer sorunu da yağ difüzyon pompasının yağa geri dönmesidir, bu da membranda karbon dopingine neden olur, membranın daha katı gereksinimleri uygun önlemler alınmalı veya yağsız yüksek vakumlu pompalama sistemi kullanılmalıdır.
(6) püskürtme hava basıncı. Çalışma hava basıncı, membranın biriktirme oranını doğrudan etkiler.
Ayrıca, farklı püskürtme cihazlarının elektrik alanı, atmosfer, hedef malzeme, altlık sıcaklığı ve membran arasındaki etkileşimin geometrik yapısı parametrelerinin farklı olması nedeniyle, en iyi işlem koşullarının üretildiği işlem parametreleri üzerinde deneyler yapılması gerekmektedir.
–Bu makale tarafından yayınlanmıştırvakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Gönderi zamanı: 05-Oca-2024