(4) Cieľový materiál. Cieľový materiál je vo všeobecnosti kľúčom k naprašovaniu, pokiaľ cieľový materiál spĺňa požiadavky, a na dosiahnutie vrstvy filmu môže byť potrebná prísna kontrola procesných parametrov. Nečistoty v cieľovom materiáli a povrchové oxidy a iné nečistoty sú dôležitým zdrojom kontaminácie filmu, takže na dosiahnutie vysoko čistej vrstvy by sa okrem použitia vysoko čistého cieľového materiálu mal pri každom naprašovaní najskôr naprašovať, aby sa vyčistil povrch terča a odstránila sa z povrchu terča vrstva oxidu.
(5) Vákuum pozadia. Úroveň vákua pozadia priamo odráža množstvo zvyškového plynu v systéme a zvyškový plyn je tiež dôležitým zdrojom kontaminácie filmovej vrstvy, preto by sa malo vákuum pozadia čo najviac zlepšiť. Ďalším problémom pri znečistení je difúzne čerpadlo, ktoré vracia olej späť do oleja, čo vedie k dopovaniu uhlíkom v membráne. Preto by sa mali prijať vhodné opatrenia s prísnejšími požiadavkami na membránu alebo by sa mali použiť bezolejové vysokovákuové čerpacie systémy.
(6) tlak naprašovacieho vzduchu. Pracovný tlak vzduchu priamo ovplyvňuje rýchlosť nanášania membrány.
Okrem toho, vzhľadom na rôzne parametre interakcie medzi membránami v rozprašovacích zariadeniach v elektrickom poli, atmosfére, cieľovom materiáli, teplote substrátu a geometrickej štruktúre, je potrebné vykonať experimenty s parametrami procesu, z ktorých sa vyberú najlepšie procesné podmienky.
–Tento článok vydávavýrobca vákuových lakovacích strojovGuangdong Zhenhua
Čas uverejnenia: 05.01.2024