(४) लक्षित सामग्री। लक्ष्य सामग्री स्पटरिंग कोटिंगको कुञ्जी हो, सामान्यतया, जबसम्म लक्ष्य सामग्रीले आवश्यकताहरू पूरा गर्दछ, र फिल्म तह प्राप्त गर्न प्रक्रिया प्यारामिटरहरूको कडा नियन्त्रण आवश्यक हुन सक्छ। लक्षित सामग्री र सतह अक्साइड र अन्य अशुद्ध पदार्थहरूमा अशुद्धता फिल्म प्रदूषणको एक महत्त्वपूर्ण स्रोत हो, त्यसैले उच्च शुद्धता तह प्राप्त गर्न, उच्च शुद्धता लक्ष्य सामग्रीको प्रयोगको अतिरिक्त, प्रत्येक स्पटरिंगमा लक्ष्यको सतह सफा गर्न पूर्व-स्पटरिंगको लागि पहिलो लक्ष्य हुनुपर्छ, अक्साइड तहको लक्ष्य सतह हटाउन.
(५) पृष्ठभूमि भ्याकुम। पृष्ठभूमि भ्याकुमको स्तरले प्रणालीमा अवशिष्ट ग्यासको मात्रालाई प्रत्यक्ष रूपमा प्रतिबिम्बित गर्दछ, र अवशिष्ट ग्यास पनि फिल्म तहको प्रदूषणको एक महत्त्वपूर्ण स्रोत हो, त्यसैले पृष्ठभूमि भ्याकुमलाई सकेसम्म सुधार गर्नुपर्छ। अर्को समस्याको प्रदूषणमा तेल प्रसार पम्प तेलमा फिर्ता हुन्छ, जसले गर्दा झिल्लीमा कार्बन डोपिङ हुन्छ, झिल्लीको कडा आवश्यकताहरूले उपयुक्त उपायहरू लिनुपर्छ वा तेल-रहित उच्च-भ्याकुम पम्पिङ प्रणालीको प्रयोग गर्नुपर्छ।
(६) स्पटरिङ हावाको चाप। काम गर्ने हावाको चापले झिल्लीको निक्षेपण दरलाई प्रत्यक्ष असर गर्छ।
थप रूपमा, विद्युतीय क्षेत्र, वायुमण्डल, लक्ष्य सामग्री, सब्सट्रेट तापक्रम र ज्यामितीय संरचनामा फरक स्पटरिङ उपकरणहरूको कारणले गर्दा झिल्ली बीचको अन्तरक्रियाको प्यारामिटरहरू आवश्यकताहरू उत्पादन गर्न, प्रक्रियाको प्यारामिटरहरूमा प्रयोगहरू गर्न आवश्यक छ, जसबाट उत्तम प्रक्रिया अवस्थाहरू।
- यो लेख प्रकाशित गरिएको होभ्याकुम कोटिंग मेसिन निर्मातागुआंग्डोंग Zhenhua
पोस्ट समय: जनवरी-०५-२०२४