ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာနည်းပညာသည် ဖုန်စုပ်ပတ်ဝန်းကျင်အောက်တွင် အောက်ခံပစ္စည်းများ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပါးလွှာသောဖလင်ပစ္စည်းများကို စုပုံပေးသည့် နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်ပြီး အီလက်ထရွန်းနစ်၊ မှန်ဘီလူး၊ ထုပ်ပိုးမှု၊ အလှဆင်မှုနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများကို အဓိကအားဖြင့် အောက်ပါအမျိုးအစားများအဖြစ် ခွဲခြားနိုင်သည်။
၁။ အပူငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများ- ၎င်းသည် ရိုးရာအကျဆုံးဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာနည်းလမ်းဖြစ်ပြီး၊ အငွေ့ပျံလှေရှိ ပါးလွှာသောဖလင်ပစ္စည်းကို အပူပေးခြင်းဖြင့် ပစ္စည်းကို အငွေ့ပျံပြီး အောက်ခံပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ အပ်နှံသည်။
၂။ စပတာရင်း အပေါ်ယံလွှာ ကိရိယာများ- ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်ကို ထိမှန်ရန် မြင့်မားသော စွမ်းအင်ရှိသော အိုင်းယွန်းများကို အသုံးပြု၍ ပစ်မှတ်ပစ္စည်း အက်တမ်များကို စပတာရင်းဖြင့် အလွှာပစ္စည်းသို့ အပ်နှံသည်။ မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်းသည် ဖလင်ကို ပိုမိုညီညာပြီး ပိုမိုခိုင်မာသော ကပ်ငြိမှုကို ရရှိစေသောကြောင့် အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်ရန် သင့်လျော်သည်။
၃။ အိုင်းယွန်းရောင်ခြည် စုပုံခြင်း ကိရိယာများ- အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်များကို အလွှာပေါ်တွင် ပါးလွှာသော ဖလင်ပစ္စည်းများကို စုပုံရန် အသုံးပြုသည်။ ဤနည်းလမ်းသည် အလွန်တပြေးညီ ဖလင်များကို ရရှိနိုင်ပြီး တိကျမှုမြင့်မားသော လိုအပ်ချက်များရှိသည့် အခါသမယများအတွက် သင့်လျော်သော်လည်း ကိရိယာကုန်ကျစရိတ်မှာ မြင့်မားသည်။
၄။ ဓာတုအငွေ့စုပုံခြင်း (CVD) ပစ္စည်းကိရိယာများ- ဓာတုဓာတ်ပြုမှုမှတစ်ဆင့် အောက်ခံပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အလွှာပါးများကို ဖွဲ့စည်းပေးသည်။ ဤနည်းလမ်းသည် အရည်အသွေးမြင့်၊ မျိုးစိတ်ပေါင်းစုံပါသော အလွှာများကို ပြင်ဆင်နိုင်သော်လည်း ပစ္စည်းကိရိယာများသည် ရှုပ်ထွေးပြီး စျေးကြီးသည်။
၅။ မော်လီကျူးရောင်ခြည် Epitaxy (MBE) ပစ္စည်းကိရိယာ- ၎င်းသည် အက်တမ်အဆင့်တွင် အလွှာပါးများ၏ ကြီးထွားမှုကို ထိန်းချုပ်သည့် နည်းလမ်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး အဓိကအားဖြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် နာနိုနည်းပညာအသုံးချမှုများအတွက် အလွန်ပါးလွှာသောအလွှာများနှင့် အလွှာများစွာပါသောဖွဲ့စည်းပုံများ ပြင်ဆင်ရာတွင် အသုံးပြုသည်။
၆။ ပလာစမာ မြှင့်တင်ထားသော ဓာတုအငွေ့စုပုံခြင်း (PECVD) ကိရိယာ- ၎င်းသည် ပလာစမာကို အသုံးပြု၍ ဓာတုဓာတ်ပြုမှုဖြင့် အလွှာပါးများ၏ အနည်အနှစ်စုပုံခြင်းကို မြှင့်တင်ပေးပြီး အပူချိန်နိမ့်တွင် အလွှာပါးများ လျင်မြန်စွာ ဖွဲ့စည်းနိုင်စေသည့် နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။
၇။ Pulsed Laser Deposition (PLD) ကိရိယာများ- ၎င်းတို့သည် ပစ်မှတ်ကိုထိမှန်စေရန်၊ ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်မှ ပစ္စည်းကို အငွေ့ပျံစေပြီး အလွှာပေါ်တွင် ထားရန် မြင့်မားသောစွမ်းအင်လေဆာ pulses များကို အသုံးပြုပြီး အရည်အသွေးမြင့်၊ ရှုပ်ထွေးသော အောက်ဆိုဒ်ဖလင်များ စိုက်ပျိုးရန်အတွက် သင့်လျော်ပါသည်။
ဤစက်ပစ္စည်းတစ်ခုစီတွင် ဒီဇိုင်းနှင့် လည်ပတ်မှုတွင် ၎င်း၏ကိုယ်ပိုင်ဝိသေသလက္ခဏာများရှိပြီး မတူညီသော စက်မှုလုပ်ငန်းအသုံးချမှုများနှင့် သုတေသနနယ်ပယ်များအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။ နည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာနည်းပညာသည်လည်း တိုးတက်နေပြီး ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာအသစ်များလည်း ပေါ်ထွက်လာနေပါသည်။
- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အလွှာစက်ထုတ်လုပ်သူ Guangdong Zhenhua
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၄ ခုနှစ်၊ ဇွန်လ ၁၂ ရက်