CVD နည်းပညာသည် ဓာတုဓာတ်ပြုမှုအပေါ် အခြေခံသည်။ ဓာတ်ပြုပစ္စည်းများသည် ဓာတ်ငွေ့အခြေအနေတွင်ရှိပြီး ထုတ်ကုန်တစ်ခုသည် အစိုင်အခဲအခြေအနေတွင်ရှိသော ဓာတ်ပြုမှုကို CVD ဓာတ်ပြုမှုဟု ရည်ညွှန်းလေ့ရှိသောကြောင့် ၎င်း၏ ဓာတုဓာတ်ပြုမှုစနစ်သည် အောက်ပါအခြေအနေသုံးရပ်နှင့် ကိုက်ညီရမည်။
(၁) ...
(2) ဓာတ်ပြုထုတ်ကုန်များတွင်၊ လိုချင်သော သိုက်မှလွဲ၍ အရာအားလုံးသည် ဓာတ်ငွေ့အခြေအနေတွင် ရှိရမည်။ ၎င်းသည် အစိုင်အခဲအခြေအနေတွင် ရှိရမည်။
(၃) အပ်နှံထားသော ဖလင်၏ အငွေ့ဖိအားသည် အပ်နှံမှုတုံ့ပြန်မှုအတွင်း သတ်မှတ်ထားသော အနည်ထိုင်အပူချိန်ရှိသော အလွှာနှင့် အပ်နှံထားသော ဖလင်သည် ခိုင်မြဲစွာ ချိတ်ဆက်ထားကြောင်း သေချာစေရန် လုံလောက်သော နိမ့်ကျသင့်သည်။ အနည်ထိုင်အပူချိန်ရှိ အလွှာပစ္စည်း၏ အငွေ့ဖိအားသည်လည်း လုံလောက်သော နိမ့်ကျရမည်။
ဒြပ်ပေါင်းဓာတ်ပြုပစ္စည်းများကို အောက်ပါအဓိကအခြေအနေသုံးမျိုးခွဲခြားထားသည်။
(၁) ဓာတ်ငွေ့အခြေအနေ။ အခန်းအပူချိန်တွင် ဓာတ်ငွေ့ရှိသော အရင်းအမြစ်ပစ္စည်းများ၊ ဥပမာ မီသိန်း၊ ကာဗွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်၊ အမိုးနီးယား၊ ကလိုရင်း စသည်တို့သည် ဓာတုအငွေ့စုပုံခြင်းကို အလွယ်ကူဆုံးဖြစ်စေပြီး စီးဆင်းမှုနှုန်းကို အလွယ်တကူ ထိန်းညှိပေးသည်။
(၂) အရည်။ အခန်းအပူချိန် သို့မဟုတ် အနည်းငယ်မြင့်သော အပူချိန်တွင် ဓာတ်ပြုမှုရှိသော အရာဝတ္ထုအချို့တွင် TiCI4၊ SiCl4၊ CH3SiCl3 စသည်တို့သည် အငွေ့ဖိအားမြင့်မားပြီး အရည်၏ မျက်နှာပြင် သို့မဟုတ် ပူဖောင်းအတွင်းရှိ အရည်မှတစ်ဆင့် ဓာတ်ငွေ့ (H2၊ N2၊ Ar ကဲ့သို့) စီးဆင်းမှုကို သယ်ဆောင်ပြီးနောက် အရာဝတ္ထု၏ ပြည့်နှက်နေသော အငွေ့များကို စတူဒီယိုသို့ သယ်ဆောင်နိုင်သည်။
(၃) အစိုင်အခဲအခြေအနေ။ သင့်လျော်သော ဓာတ်ငွေ့ သို့မဟုတ် အရည်အရင်းအမြစ်မရှိသည့်အခါ အစိုင်အခဲအခြေအနေ ကုန်ကြမ်းများကိုသာ အသုံးပြုနိုင်သည်။ အချို့သော ဒြပ်စင်များ သို့မဟုတ် ၎င်းတို့၏ ဒြပ်ပေါင်းများသည် ဒီဂရီရာပေါင်းများစွာတွင် သိသာထင်ရှားသော အငွေ့ဖိအားရှိပြီး TaCl5၊ Nbcl5၊ ZrCl4 စသည်တို့ကို ဖလင်အလွှာထဲသို့ သွင်းထားသော သယ်ဆောင်ဓာတ်ငွေ့ကို အသုံးပြု၍ စတူဒီယိုထဲသို့ သယ်ဆောင်နိုင်သည်။
ပိုမိုအဖြစ်များသော အခြေအနေအမျိုးအစားမှာ ဓာတ်ငွေ့တစ်ခုနှင့် အရင်းအမြစ်ပစ္စည်း ဓာတ်ငွေ့-အစိုင်အခဲ သို့မဟုတ် ဓာတ်ငွေ့-အရည် ဓာတ်ပြုမှုမှတစ်ဆင့် သင့်လျော်သော ဓာတ်ငွေ့အစိတ်အပိုင်းများ ဖွဲ့စည်းခြင်းဖြင့် စတူဒီယိုသို့ ပို့ဆောင်ပေးပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ HCl ဓာတ်ငွေ့နှင့် သတ္တု Ga တို့သည် ဓာတ်ငွေ့အစိတ်အပိုင်း GaCl ကို ဖွဲ့စည်းရန် ဓာတ်ပြုပြီး ၎င်းကို GaCl ပုံစံဖြင့် စတူဒီယိုသို့ ပို့ဆောင်ပေးပါသည်။
- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာစက်ထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၃ ခုနှစ်၊ နိုဝင်ဘာလ ၁၆ ရက်