Teknolojia ya CVD inategemea mmenyuko wa kemikali. Mmenyuko ambapo vitendanishi viko katika hali ya gesi na moja ya bidhaa iko katika hali ngumu kwa kawaida hujulikana kama mmenyuko wa CVD, kwa hivyo mfumo wake wa mmenyuko wa kemikali lazima utimize masharti matatu yafuatayo.
(1) Katika halijoto ya uwekaji, vitendanishi lazima viwe na shinikizo la juu la mvuke la kutosha. Ikiwa vitendanishi vyote ni vya gesi kwenye halijoto ya kawaida, kifaa cha uwekaji ni rahisi kiasi, ikiwa vitendanishi ni tete kwenye halijoto ya kawaida ni kidogo sana, kinahitaji kupashwa joto ili kiwe tete, na wakati mwingine kinahitaji kutumia gesi ya kubeba ili kuileta kwenye chumba cha mmenyuko.
(2) Kati ya bidhaa za mmenyuko, vitu vyote lazima viwe katika hali ya gesi isipokuwa amana inayotakiwa, ambayo iko katika hali ngumu.
(3) Shinikizo la mvuke la filamu iliyohifadhiwa linapaswa kuwa chini ya kutosha ili kuhakikisha kwamba filamu iliyohifadhiwa imeunganishwa vizuri kwenye substrate yenye halijoto fulani ya uwekaji wakati wa mmenyuko wa uwekaji. Shinikizo la mvuke la nyenzo ya substrate kwenye halijoto ya uwekaji lazima pia liwe chini ya kutosha.
Vitendanishi vya uwekaji vimegawanywa katika hali kuu tatu zifuatazo.
(1) Hali ya gesi. Nyenzo chanzo ambazo ni gesi kwenye joto la kawaida, kama vile methane, kaboni dioksidi, amonia, klorini, n.k., ambazo zinafaa zaidi kwa uwekaji wa mvuke wa kemikali, na ambazo kiwango cha mtiririko hudhibitiwa kwa urahisi.
(2) Kimiminika. Baadhi ya vitu vya mmenyuko kwenye halijoto ya kawaida au halijoto ya juu kidogo, kuna shinikizo kubwa la mvuke, kama vile TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, n.k., vinaweza kutumika kubeba gesi (kama vile H2, N2, Ar) kupitia uso wa kioevu au kioevu ndani ya kiputo, na kisha kubeba mvuke uliojaa wa dutu hiyo hadi kwenye studio.
(3) Hali Imara. Kwa kukosekana kwa chanzo kinachofaa cha gesi au kioevu, ni malisho ya hali ngumu pekee yanayoweza kutumika. Baadhi ya elementi au misombo yao katika mamia ya digrii ina shinikizo kubwa la mvuke, kama vile TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, n.k., inaweza kupelekwa kwenye studio kwa kutumia gesi ya kubeba iliyowekwa kwenye safu ya filamu.
Hali ya kawaida zaidi hujitokeza kupitia gesi fulani na mmenyuko wa gesi-ngumu au kioevu-gesi, uundaji wa vipengele vya gesi vinavyofaa kwa uwasilishaji wa studio. Kwa mfano, gesi ya HCl na Ga ya chuma huguswa na kuunda sehemu ya gesi GaCl, ambayo husafirishwa hadi studio katika umbo la GaCl.
– Makala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua
Muda wa chapisho: Novemba-16-2023