La tecnología CVD se basa en una reacción química. La reacción en la que los reactivos están en estado gaseoso y uno de los productos está en estado sólido se suele denominar reacción CVD, por lo que su sistema de reacción química debe cumplir las tres condiciones siguientes.
(1) A la temperatura de deposición, los reactivos deben tener una presión de vapor suficientemente alta. Si todos los reactivos son gaseosos a temperatura ambiente, el dispositivo de deposición es relativamente simple; si los reactivos son volátiles a temperatura ambiente, la cantidad es muy pequeña, por lo que es necesario calentarlos para que se vuelvan volátiles y, en ocasiones, utilizar un gas portador para introducirlos en la cámara de reacción.
(2) De los productos de reacción, todas las sustancias deben estar en estado gaseoso excepto el depósito deseado, que está en estado sólido.
(3) La presión de vapor de la película depositada debe ser lo suficientemente baja para asegurar que la película depositada se adhiera firmemente a un sustrato que tenga una determinada temperatura de deposición durante la reacción de deposición. La presión de vapor del material del sustrato a la temperatura de deposición también debe ser lo suficientemente baja.
Los reactivos de deposición se dividen en los siguientes tres estados principales.
(1) Estado gaseoso. Materiales de partida que son gaseosos a temperatura ambiente, como metano, dióxido de carbono, amoníaco, cloro, etc., que son los más propicios para la deposición química de vapor y para los que el caudal se puede regular fácilmente.
(2) Líquido. Algunas sustancias reactivas a temperatura ambiente o ligeramente superior, tienen una alta presión de vapor, como TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, etc., que pueden utilizarse para transportar el flujo de gas (como H2, N2, Ar) a través de la superficie del líquido o del líquido dentro de la burbuja, y luego transportar los vapores saturados de la sustancia al estudio.
(3) Estado sólido. En ausencia de una fuente gaseosa o líquida adecuada, solo se pueden utilizar materias primas en estado sólido. Algunos elementos o sus compuestos, a cientos de grados, tienen una presión de vapor considerable, como TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, etc., que pueden transportarse al estudio utilizando el gas portador depositado en la capa de película.
El tipo de situación más común es mediante una reacción gas-sólido o gas-líquido entre un gas determinado y el material de origen, formando los componentes gaseosos adecuados para su entrega al estudio. Por ejemplo, el gas HCl y el metal Ga reaccionan para formar el componente gaseoso GaCl, que se transporta al estudio en forma de GaCl.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 16 de noviembre de 2023