Công nghệ CVD dựa trên phản ứng hóa học. Phản ứng trong đó các chất phản ứng ở trạng thái khí và một trong các sản phẩm ở trạng thái rắn thường được gọi là phản ứng CVD, do đó hệ thống phản ứng hóa học của nó phải đáp ứng ba điều kiện sau.
(1) Ở nhiệt độ lắng đọng, các chất phản ứng phải có áp suất hơi đủ cao. Nếu tất cả các chất phản ứng đều ở dạng khí ở nhiệt độ phòng, thiết bị lắng đọng tương đối đơn giản, nếu các chất phản ứng dễ bay hơi ở nhiệt độ phòng rất ít, cần phải làm nóng để làm cho chúng bay hơi, và đôi khi cần sử dụng khí mang để đưa chúng vào buồng phản ứng.
(2) Trong số các sản phẩm phản ứng, tất cả các chất phải ở trạng thái khí ngoại trừ chất kết tủa mong muốn, chất này ở trạng thái rắn.
(3) Áp suất hơi của màng lắng đọng phải đủ thấp để đảm bảo màng lắng đọng được gắn chặt vào chất nền có nhiệt độ lắng đọng nhất định trong quá trình phản ứng lắng đọng. Áp suất hơi của vật liệu chất nền ở nhiệt độ lắng đọng cũng phải đủ thấp.
Các chất phản ứng lắng đọng được chia thành ba trạng thái chính sau đây.
(1) Trạng thái khí. Các nguyên liệu nguồn ở dạng khí ở nhiệt độ phòng, chẳng hạn như metan, cacbon đioxit, amoniac, clo, v.v., là những nguyên liệu thuận lợi nhất cho quá trình lắng đọng hơi hóa học và có tốc độ dòng chảy dễ điều chỉnh.
(2) Chất lỏng. Một số chất phản ứng ở nhiệt độ phòng hoặc nhiệt độ cao hơn một chút có áp suất hơi cao, chẳng hạn như TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, v.v., có thể được sử dụng để dẫn khí (như H2, N2, Ar) chảy qua bề mặt chất lỏng hoặc chất lỏng bên trong bong bóng, và sau đó dẫn hơi bão hòa của chất đó vào phòng thí nghiệm.
(3) Trạng thái rắn. Trong trường hợp không có nguồn khí hoặc lỏng thích hợp, chỉ có thể sử dụng nguyên liệu ở trạng thái rắn. Một số nguyên tố hoặc hợp chất của chúng ở nhiệt độ hàng trăm độ có áp suất hơi đáng kể, chẳng hạn như TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, v.v., có thể được đưa vào phòng thí nghiệm bằng cách sử dụng khí mang được lắng đọng vào lớp màng.
Trường hợp phổ biến hơn là thông qua phản ứng giữa một loại khí nhất định với nguyên liệu nguồn ở dạng khí-rắn hoặc khí-lỏng, tạo thành các thành phần khí thích hợp để vận chuyển đến xưởng sản xuất. Ví dụ, khí HCl và kim loại Ga phản ứng tạo thành thành phần khí GaCl, được vận chuyển đến xưởng sản xuất dưới dạng GaCl.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 16/11/2023